PD Processes for Photography at Extreme Resolution: II. PD-D Based on Diazosulphide^*

* Physical Development Recording Systems: VI. Part I of this paper has been published in the previous issue of this Journal. Part of this paper was presented at the Symposium on “Non-Silver Photographic Processes”, organized by The Royal Photographic Society, On 30 September to 3 October 1969, in Oxford, and at the Photographic Colloquium, organized by Prof. W. F. Berg of the Photographic Department ETH, ZUrich, on 17 December 1970

Abstract

Two PD materials, PD-MD based on diazosulphonate and PD-D based on diazosulphide, have been found suitable for Photography at extreme resolution. Amplification by physical development raises the sensitivity of the materials to a value near or inside the range where flash source photorepeater cameras can be applied. Consequently, applications in integrated circuit technology and in photographic information storage become attractive. The role of microphotography in integrated circuit technology and the requirements to be onet by useful photographic materials are discussed. The properties of the two materials are treated with relation to their (photo) chemical behaviour. PDMD has unsurpassed qualities as an extreme-resolution recording and copying material, but its sensitivity is at best marginal When photorepeaters with slash exposure “on the fly” have to be used (Part I). PD-D material has satisfactory sensitivity combined with ocellent resolution and is therefore very suitable for photomask applications with the above-mentioned cameras (Part II). The properties of the two materials are also compared with those of other known high-resolution systems.

Résumé

On a mis au point deux surfaces sensibles, développables physiquement, adaptées à la photographie de haute résolution: le PD-MD à base de diazosulfonate et le PD-D à base de diazosulfúre. L’amplification apportée par le développement physique confère à ces Produits une sensibilité presque suffisante ou suffisante pour pouvoir les utiliser dans des chambres de reproduction à répétition avec exposition u flash électronique. De ce fait, ces procédés deviennent intéressants pour la technologie des circuits intégrés et l’enregistrement d’informa"ons photographiques. On décrit le rôle de la microphotographie dans la technologie des circuits intégrés et les exigences des produits photo#Taphiques appropriés. Les propriétés de ces produits sont envisagées en relation avec leur comportement photochimique. Les qualités du-MD en font un procédé inégalé pour les enregistrements et les copies de haute résolution, mais même dans les cas les plus favorables, $:’. Sensibilité est trop faible pour qu’il puisse être employé dans des chambres à répétition avec exposition au flash sans arrêt sur l’image. (!ère partie). Le PD-D a une sensibilité satisfaisante ainsi qu’une excellente résolution et convient par conséquent parfaitement aux applications o photomasques avec les chambres susmentionnées (2éme partie).

Les propriétés de ces deux matériaux sont également comparées avec celles des autres systémes à haute résolution connus.

Zusammenfassung

Die beiden Materialien PD-MD, das auf Diazosulfonat und PD-D, welches auf Diazosulfid beruht, eignen sich für die Photographie mit extremer Auflösung. Physikalische Entwicklung bringt die Empfindlichkeit der Materialien auf den Wert, der “ahe oder innerhalb des Bereiches liegt, in dem Blitzlicht-Repeater-Cameras angewendet werden können. Folglich ist die Anwendung bei der Herstellung integrierter Schaltkreise und bei der Speicherüng photographischer Informationen interesssant. Die Rolle der Mikrophotoaphie in der Technik für integrierte Schaltkreise und die Anforderungen an geeignete photographische Materialein werden besprochen. S Werden die Eigenschaften der zwei Materialien in bezug auf ihr (photo-) chemisches Verhalten behandelt, PD-MD ist unübertroffen als ufzeichnungs- und Kopiermaterial mit extremem Auflösungsvermögen, aber seine Empfindlichkeit ist am besten, wenn Photorepeater mit Blitzbelichtung “on the fly” benutzt werden (Teil I). Das PD-D Material besitzt befriedigende Empfindlichkeit kombiniert mit ausgezeichneter uflösung und ist daher für Photomasken bei den oben erwähnten Cameras sehr geeignet (Teil II). Die Eigenschaften der beiden Materialien Werden auch mit denen anderer bekannter Systeme mit hoher Auflösung verglichen.

Riassunto

Due materiali PD sono stati trovati efficienti per sistemi fotografici ad estrema risoluzione: l’uno, PD-MD, basato su lazosolfonati e l’altro, PD-D, basato su diazosulfuri.

Amplificazioni ottenute mediante sviluppo fisico, raggiungono valori di sensibilità vicini o nell’ambito di quelli di materiali che possono ossere impiegati con apparecchi a flash per fotoriproduzione. Conseguentemente diventa interessante la possibilità di applicazione di questi “lateriali nella tecnologia di circuiti integrati e nell’archiviazione di informazioni.

Vengono discussi il ruolo della microfotografia nella tecnologia di circuiti integrati e le caratteristiche che debbono avere i materiali fotografici per quei determinati scopi.

Le proprietà dei due materiali vengono considerate alla luce del loro comportamento fotochimico.

Come materiale per copia ad elevata risoluzione, il sistema PD-MD presenta delle qualità eccezionali, mentre la sua sensibilità è, nei oasi migliori, appenda sufficiente quando vengono usati apparecchi fotoriproduttori con esposizione a flash (Parte I).

Materiali PD-D hanno una sensibilità soddisfacente associata ad una eccellente risoluzione e sono, perciò, assai convenienti per essere Impiegati come fotomaschere nelle apparecchiature sumenzionate (Parte II). Le proprietà dei due materiali sono altresi paragonate con quelle ol sistemi già noti ad alta risoluzione.

Notes

* Physical Development Recording Systems: VI. Part I of this paper has been published in the previous issue of this Journal. Part of this paper was presented at the Symposium on “Non-Silver Photographic Processes”, organized by The Royal Photographic Society, On 30 September to 3 October 1969, in Oxford, and at the Photographic Colloquium, organized by Prof. W. F. Berg of the Photographic Department ETH, ZUrich, on 17 December 1970