Nickel Oxide Interface for Xerographic Selenium Photoreceptors on Flexible Nickel Foils

Paper presented at a symposium on Electrophotography organized by the Science Committee of The Royal Photographic Society on 12-17 September 1976 in Cambridge.

Abstract

The paper reports on a method to produce a nickel oxide interface for xerographic selenium alloy photoreceptors on flexible nickel foils. The process consists of an etching treatment in phosphoric acid catalyzed by small amounts of Pd or Pt on the surface and a subsequent electrochemical treatment in a Na₂Cr₂0₇ solution. The catalytic effect of Pd and Pt on the nickel dissolution in phospheric acid is investigated and explained on the basis of electrochemical principles. The etched nickel surface provides excellent adhesion of the photoconducting layer to the nickel substrate. In the subsequent electrochemical anodization treatment, a several hundred A thick nickel oxide layer is formed which reduces electron injection from the interface.

Resume

Description d’une méthode d’obtention d’interfaces d’oxyde de nickel pour des photorécepteurs xérographiques constitués par des alliages de sélénium déposés sur des feuilles de nickel flexibles.

Le procédé comporte un traitement de décapage dans l’acide phosphorique catalysé par de petites quantités de palladium ou de platine sur la surface et un traitement électrochimique ultérieur dans une solution de Na₂Cr₂0₇. L’effet catalytique du palladium et du platine sur la dissolution du nickel dans l’acide phosphorique a été étudié et expliqué d’après des considérations électrochimiques. La surface de nickel décapée assure une excellente adhésion de la couche photoconductrice au substrat de nickel. La couche d’oxyde de nickel de plusieurs centaines d’angstroms d’épaisseur formée lors du traitement d’anodisation électrochimique diminue l’injection d’électrons provenant de l’interface.

Zusammenfassung

Die Arbeit berichtet über ein Methode zur Erzeugung einer Nickeloxid-Zwischenschicht für zerographische Photorezeptoren auf Selen-Basis auf flexiblen Nickel-Folien. Das Verfahren besteht aus einer Ätzbehandlung der Ni-Folien in Phosphorsäure, die durch geringe Mengen von Palladium oder Platin auf der Oberfläche katalysiert wird, und einer nachfolgenden elektrochemischen Behandlung in Natriumbichromatlösung. Der katalytische Einfluß von Pd und Pt auf die Auflösung von Ni in Phosphorsäure wird untersucht und durch elektrochemische Prinzipien erklärt. Die Anätzung der Nickeloberfläche bewirkt eine ausgezeichnete Adhäsion der Photoleiterschicht am Ni-Substrat. In einer nachfolgenden elektrochemischen Anodisierung wird eine mehrere hundert Ä dicke NickeloxidSchicht gebildet, die die Elektroneninjektion aus der Zwischenschicht merklich herabsetzt.

Riassunto

II lavoro tratta di un metodo per produrre interfacce di ossido di nichel per fotoricettori xerografici di lega al selenio su lamine flessibili di nichel.

Il processo consiste in un trattamento di corrosione superficiale con acido fosforico catalizzato da piccole quantità di Pd o Pt seguito da un trattamento elettrochimico in soluzione di Na₂Cr₂0₇.

L’effetto catalitico del Pd o Pt sulla dissoluzione del nichel in acido fosforico viene studiato e spiegato sulla base dei principi elettrochimici.

La superficie di nichel corrosa permette una ottima adesione dello strato fotoconduttore sul substrato di nichel.

Nel susseguente trattamento elettrochimico anodico si forma uno strato di ossido di nichel spesso parecchie centinaia di À che riduce ’introduzione di elettroni dall’interfaccia.

Notes

Paper presented at a symposium on Electrophotography organized by the Science Committee of The Royal Photographic Society on 12-17 September 1976 in Cambridge.