The Interferometric Measurement of Metal Oxide Films

Abstract

An interferometric method is described for investigating oxide films in situ on the metal surface. The method yields the surface finish of the inside and outside surfaces of a metal oxide film, its volume ratio, its thickness and the location of the original surface with respect to the two oxide surfaces. All this information is contained in a single photograph provided the refractive index of the oxide is known. Some results for anodic oxide films on aluminium are given. Description d'une méthode interférométrique permettant d'ðudier « in situ » des couches d'oxyde formées sur une surface métallique. La méthode donne l'état des surfaces interne et externe de l'oxyde, son volume, son épaisseur et la position de la surface originale par rapport aux deux surfaces de l'oxyde. Ces données sont fournies par une simple photographie, si l'on connait déjà l'indice de l'oxyde. Quelques résultats sont donnés pour des couches d'oxyde anodique sur aluminium. Es wird ein interferometrisches Verfahren für die Untersuchung von Oxydschichten in ihrer Lage auf dem Metalluntergrund beschrieben. Das Verfahren liefert die Güte der Innen- und Aussenfläche der Oxydschicht, ihr Volumverhältnis, ihre Dicke und die Lage der ursprünglichen Metalloberfläche im Hinblick auf die beiden Oxydflächen. Alle diese Angaben erhält man mit einer einzigen photographischen Aufnahme, wenn nur der Brechwert des Metalloxydes bekannt ist. Einige Ergebnnise für die Anodenschicht aus Aluminiumoxyd werden mitgeteilt.