Investigations of the Adhesion of Maleic Anhydride/Cyclic Olefin Alternating Copolymers to Silicon Substrates: Improved Materials for 193 nm Lithography

References

• Nozaki , N. , Kaimoto , M. , Takahashi , S. , Takeshi , S. and Abe , N. 1994 . Chem. Mater. , 6 : 1492
   Web of Science ®Google Scholar
• Kunz , R. R. , Palmateer , A. R. , Forte , A. R. , Allen , R. D. , Wallraff , G. M. , DiPietro , R. A. and Hofer , D. C. 1996 . Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. , 2724 : 365
   Google Scholar
• Allen , R. D. , Opitz , J. , Larson , C. E. , Wallow , T. I. and Hofer , D. C. 1999 . Microlithography World , 5 winter
   Google Scholar
• Jung , M. H. , Jung , J. C. , Lee , G. and Baik , K. H. 1998 . Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 , 37 : 6889
   Google Scholar
• Nalamasu , O. , Houlihan , R. A. , Cirelli , A. G. , Watson , G. P. , Hutton , R. S. , Kometani , J. M. and Reichmanis , E. 1998 . J. Vac. Sci. Technol. B , 16 : 3716
   Web of Science ®Google Scholar
• Okoroanyanwu , U. , Byers , J. , Shimokawa , T. and Willson , C. G. 1998 . Chem. Mater. , 10 : 3328
   Web of Science ®Google Scholar
• Ito , H. 1996 . Solid State Technol. , 36 (7) : 164
   Google Scholar
• Willson , C. G. 1994 . Introduction to Microlithography, , 2nd ed. , Edited by: Thompson , L. F. , Willson , C. G. and Bowden , M. J. Washington, DC : ACS Professional Reference book, American Chemical Society . Chap. 3.
   Google Scholar
• Kunz , R. R. , Allen , R. D. and Wallraff , G. M. 1994 . Polym. Prepr. (Am. Chem. Soc., Div. Polym. Chem.) , 35 (2) : 939
   Google Scholar
• Allen , R. D. , Wallraff , G. M. , Hofer , D. C. and Kunz , R. R. 1997 . IBM J. Res. Dev. , 41 : 95
   Web of Science ®Google Scholar
• Nonogaki , S. , Ueno , T. and Ito , T. 1999 . Microlithography Fundamentals in Semiconductor Devices and Fabrication Technology , 115 – 119 . New York : Marcel Dekker .
   Google Scholar
• Wallraff , G. M. and Hinsberg , W. D. 1999 . Chem. Rev. , 99 : 1801
   PubMed Web of Science ®Google Scholar
• Allen , R. D. , Wallraff , G. M. , Hinsberg , W. D. and Simpson , L. L. 1991 . J. Vac. Sci. Technol. (B) , 9 : 3357
   Web of Science ®Google Scholar
• Wallow , T. I. 1998 . Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. , 3333 : 92
   Google Scholar
• Gokhan , H. , Esho , S. and Ohnishi , Y. 1983 . J. Electrochem. Soc. , 130 : 143
   Web of Science ®Google Scholar
• Kaimoto , Y. , Nozaki , K. , Takechi , M. and Abe , N. 1992 . Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. , 1672 : 66
   Google Scholar
• Nozaki , K. , Kaimoto , Y. , Takahashi , M. , Takechi , M. and Abe , N. 1994 . Chem. Mater. , 6 : 1492
   Web of Science ®Google Scholar
• Takechi , S. , Takahashi , M. , Kotachi , A. , Nozaki , K. , Yano , E. and Hanyu , I. 1996 . J. Photopolym. Sci. Technol. , 9 : 475
   Web of Science ®Google Scholar
• Yamashita , K. , Endo , M. , Sasago , M. , Nomura , N. , Nagano , H. , Mizuguchi , S. , Ono , T. and Sato , T. 1993 . J. Vac. Sci. Technol. (B) , 11 : 2692
   Web of Science ®Google Scholar
• Nakano , K. , Maeda , K. , Iwasa , S. , Yano , J. , Ogura , Y. and Hasegawa , E. 1994 . Proc. SPlE-lnt. Soc. Opt. Eng. , 2195 : 194
   Google Scholar
• Maeda , K. , Nakano , K. , Ohfuji , T. and Hasegawa , E. 1996 . Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. , 2724 : 377
   Google Scholar
• Allen , R. D. , Wallraff , G. M. , DiPietro , R. A. , Hofer , D. C. and Kunz , R. R. 1994 . J. Photopolym. Sci. Technol. , 7 : 507
   Google Scholar
• Okoroanyanwu , U. , Shimokawa , T. , Byers , J. , Medeiros , D. , Willson , C. G. , Niu , Q. J. , Fréchet , J. M. J. and Allen , R. D. 1997 . Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. , 3049 : 92
   Google Scholar
• Okoroanyanwu , U. , Shimokawa , T. , Byers , J. and Willson , C. G. 1998 . Chem Mater. , 10 : 3319
   Web of Science ®Google Scholar
• Nozaki , K. and Yano , E. 1997 . J. Photopolym. Sci. Technol. , 10 : 545
   Google Scholar
• Patterson , K. , Okoroanyanwu , U. , Shimokawa , T. , Cho , S. , Byers , J. and Willson , C. G. 1998 . Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. , 3333 : 425
   Google Scholar
• Wallow , T. I. , Houlihan , F. M. , Nalamasu , O. , Chandross , E. A. , Neenan , T. X. and Reichmanis , E. 1996 . Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. , 2724 : 355
   Google Scholar
• Houlihan , F. M. , Wallow , T. I. , Nalamasu , O. and Reichmanis , E. 1997 . Macromolecules , 30 : 6517
   Web of Science ®Google Scholar
• Patterson , K. , Yamchika , M. , Cho , S. , Rager , T. , Yamada , S. , Byers , J. and Willson , C. G. 1999 . Polym. Mat. Sci. Eng. , 81 : 43
   Web of Science ®Google Scholar
• Gabor , A. H. 1999 . Polym. Mat. Sci. Eng. , 81 : 41
   Google Scholar
• Allen , R. D. , Sooriyakumaran , R. , Opitz , J. , Wallraff , G. M. , DiPietro , R. A. , Breyta , G. and Hofer , D. C. 1996 . Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. , 2724 : 334
   Google Scholar
• Allen , R. D. , Opitz , J. , Wallow , T. I. , DiPietro , R. A. , Hofer , D. C. , Jayaraman , S. , Hullihan , K. A. , Rhodes , L. F. , Goodall , B. L. and Shick , R. A. 1998 . Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. , 3333 : 463
   Google Scholar
• Opitz , J. , Allen , R. D. , Wallow , T. I. , Wallraff , G. M. and Hofer , D. C. 1998 . Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. , 3333 : 571
   Google Scholar
• Koh , C. W. and Baik , K. H. 2000 . J. Photopolym. Sci. Technol. , 13 : 539
   Google Scholar
• Trimble , A. R. , Tully , D. C. , Fréchet , J. M. J. , Medeiros , D. R. and Angelopoulos , M. 2000 . Polym. Prepr. (Am. Chem. Soc., Div. Polym. Chem.) , 41 (1) : 325
   Google Scholar
• Kim , J. B. , Yun , H. J. , Kwon , Y. G. and Lee , B. W. 2000 . Polymer , 41 : 8035
   Web of Science ®Google Scholar
• Storey , R. F. , Donnalley , A. B. and Maggio , T. L. 1998 . Macromolecules , 31 : 1523
   Web of Science ®Google Scholar
• Pasquale , A. J. , Allen , R. D. and Long , T. E. in press . Macromolecules ,
   Google Scholar
• Owens , D. K. and Wendt , R. C. 1969 . J. Appl. Polym. Sci. , 13 : 1741
   Web of Science ®Google Scholar
• Fowkes , F. M. 1962 . J. Phys. Chem. , 66 : 382
   Web of Science ®Google Scholar