References
- El-Boragy , M. and Schubert , K. 1981 . Z. Metallk. , 72 : 279
- Erich , R. and Christoph , R. J. 1971 . Z. Metallk. , 62 : 840
- Ghandhi , S. K. 1983 . VLSI Fabrication Principles—Silicon and Gallium Arsenide , New York : Wiley .
- Ivey , D. G. and Piercy , G. R. 1987 . Thin Solid Films , 149 : 73
- Kiely , C. J. , Cherns , D. and Eaglesham , D. J. 1987 . Phil. Mag. A , 55 : 237
- Kobayashi , A. , Sakurai , T. , Hashizume , T. and Sakata , T. 1986 . J. appl. Phys. , 59 : 3448
- Kuan , T. S. , Freeouf , J. L. , Batson , P. E. and Wilkie , E. L. 1985 . J. appl. Phys. , 58 : 1519
- Olowolafe , J. O. , Hol , P. S. , Hovel , H. J. , Lewis , J. E. and Woodall , J. M. 1979 . J. appl. Phys. , 50 : 955
- Poate , J. M. , Tu , K. N. and Mayer , J. W. , eds. 1978 . Thin Films—Inter diffusion and Reactions , New York : Wiley .
- Saini , G. S. , Clavert , L. D. , Heyding , R. D. and Taylor , J. B. 1964 . Can. J. Chem. , 42 : 620
- Sands , T. , Keramidas , V. G. , Gronsky , R. and Washburn , J. 1986 . Thin Solid Films , 136 : 105
- Schubert , K. , Lukas , H. L. , Meaner , H.-G. and Bhan , S. 1959 . Z. Metdllk. , 50 : 539
- Sheng , T. T. and Chang , C. C. 1976 . IEEE Trans. Electron Devices , 23 : 531
- Walser , R. M. and Bené , R. W. 1976 . Appl. Phys. Lett. , 28 : 624
- Zeng , X. F. and Chung , D. D. 1982 . J. vac. Sci. Technol. , 21 : 611