References
- Kornblum, L.; Paska, Y.; Rothschild, J. A.; Haick, H.; Eizenberg, M. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 233508.
- Li, Y. T.; Chen, H. H.; Babu, B. H.; Hsieh, Y. Y.; Chen, S. H. Appl. Surf. Sci. 2010, 256, 6908–6913.
- Alt, M.; Schinke, J.; Hillebrandt, S.; Hänsel, M.; Hernandez-Sosa, G.; Mechau, N.; Glaser, T.; Mankel, E.; Hamburger, M.; Deing, K.; Jaegermann, W.; Pucci, A.; Kowalsky, W.; Lemmer, U.; Lovrincic, R. ACS Appl. Mater. Interfaces 2014, 6, 20234–20241.
- Ishii, H.; Sugiyama, K.; Ito, E.; Seki, K. Adv. Mater. 1999, 11, 605–625.
- Aswal, D. K.; Lenfant, S.; Guerin, D.; Yakhmi, J. V.; Vuillaume, D. Anal. Chim. Acta. 2006, 568, 84–108.
- Wold, D. J.; Frisbie, C. D. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 5549–5556.
- Venkataraman, L.; Park, Y. S.; Whalley, A. C.; Nuckolls, C.; Hybertsen, M. S.; Steigerwald, M. L. Nano Lett. 2007, 7, 502–506.
- Shishan Zhang, A. C. J., Schwartz, D. K., Lee, T. R. Langmuir 2008, 24, 10204–10208.
- Wu, K.; Bailey, T. C.; Willson, C. G.; Ekerdt, J. G. Langmuir 2005, 21, 11795–11801.
- Wang, M.; Hill, I. G. Org Electron. 2012, 13, 498–505.
- Wang, H.; Mativetsky, J. M.; Ren, Y.; Gomez, E. D.; Jaye, C.; Schwartz, J.; Fischer, D. A.; Loo, Y.-L. Org Electron. 2014, 15, 3333–3340.
- Tamada, K.; Ishida, T.; Knoll, W.; Fukushima, H.; Colorado Jr, R.; Graupe, M.; Shmakova, O. E.; Lee, T. R. Langmuir 2001, 17, 1913–1921.
- Alloway, D. M.; Hofmann, M.; Smith, D. L.; Gruhn, N. E.; Graham, A. L.; Colorado Jr, R.; Wysocki, V. H.; Lee, T. R.; Lee, P. A.; Armstrong, N. R. J. Phys. Chem. B. 2003, 107, 11690–11699.
- Rusu, P. C.; Brocks, G. J. Phys. Chem. B. 2006, 110, 22628–22634.
- Weidkamp, K. P.; Hacker, C. A.; Schwartz, M. P.; Cao, X.; Tromp, R. M.; Hamers, R. J. J. Phys. Chem. B. 2003, 107, 11142–11148.
- Ciampi, S.; Harper, J. B.; Gooding, J. J. Am. Chem. Soc. 2010, 39, 2158–2183.
- Sun, Q. Y.; De Smet, L. C. P. M.; Van Lagen, B.; Wright, A.; Zuilhof, H.; Sudhölter, E. J. R. Anal. Chim. Acta. 2004, 43, 1352–1355.
- Szwajca, A.; Rapp, M.; Bilska, M.; Krzywiecki, M.; Koroniak, H. Appl. Surf. Sci. 2013, 274, 221–230.
- Szwajca, A.; Krzywiecki, M.; Pluskota-Karwatka, D. Thin Solid Films 2015, 588, 78–84.
- Zhu, X. Y.; Boiadjiev, V.; Mulder, J. A.; Hsung, R. P.; Major, R. C. Langmuir 2000, 16, 6766–6772.
- Hacker, C. A.; Anderson, K. A.; Richter, J. L.; Richter, C. A. Langmuir 2005, 21, 882–889.
- Wang, H.; Gomez, E. D.; Guan, Z.; Jaye, C.; Toney, M. F.; Fischer, D. A.; Kahn, A.; Loo, Y. L. J. Phys. Chem. C 2013, 117, 20474–20484.
- Ng, C. Y. B.; Yeoh, K. H.; Whitcher, T. J.; Talik, N. A.; Woon, K. L.; Saisopa, T.; Nakajima, H.; Supruangnet, R.; Songsiriritthigul, P. J. Phys. D: Appl. Phys. 2014, 47, 1–6.
- Lenfant, S.; Guerin, D.; Van Tran, F.; Chevrot, C.; Palacin, S.; Bourgoin, J. P.; Bouloussa, O.; Rondelez, F.; Vuillaume, D. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 13947–13958.
- Yaffe, O.; Ely, T.; Har-Lavan, R.; Egger, D. A.; Johnston, S.; Cohen, H.; Kronik, L.; Vilan, A.; Cahen, D. J. Phys. Chem. C 2013, 117, 22351–22361.
- Gergel-Hackett, N.; Zangmeister, C. D.; Hacker, C. A.; Richter, L. J.; Richter, C. A. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 4259–4261.
- Trapp, N.; Scherer, H.; Hayes, S. A.; Berger, R. J. F.; Kütt, A.; Mitzel, N. W.; Saame, J.; Krossing, I. Phys. Chem. Chem. Phys. 2011, 13, 6184–6191.
- Tamada K., T. I., Knoll W., Fukushima H., Colorado, R., Jr., Graupe M., Shmakova O. E., and Lee T. R.. Langmuir 2001, 17, 1913–1921.
- Vilan, A.; Yaffe, O.; Biller, A.; Salomon, A.; Kahn, A.; Cahen, D. Adv. Mater. 2010, 22, 140–159.
- Szwajca, A.; Krzywiecki, M.; Koroniak, H. J. Fluorine Chem. 2015, 180, 248–256.
- Giesbers, M.; Marcelis, A. T. M.; Zuilhof, H. Langmuir 2013, 29, 4782–4788.
- Szwajca, A.; Krzywiecki, M.; Koroniak H. unpublished results.
- Tortech, L.; Mekhalif, Z.; Delhalle, J.; Guittard, F.; Geribaldi, S. Thin Solid Films 2005, 491, 253–259.
- 03, G. Revision C.02, Gaussian, Inc., Wallingford CT, 2004.
- Mönch, W. Semiconductor Surfaces and Interfaces, 3rd ed.; Springer: 2001.
- Ma, H.; Yip, H. L.; Huang, F.; Jen, A. K. Y. Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 1371–1388.
- Kraft, U.; Zschieschang, U.; Ante, F.; Kälblein, D.; Kamella, C.; Amsharov, K.; Jansen, M.; Kern, K.; Weber, E.; Klauk, H. J. Mater. Chem. 2010, 20, 6416–6418.
- Koch, N. ChemPhysChem 2007, 8, 1438–1455.
- Saito, N.; Hayashi, K.; Sugimura, H.; Takai, O.; Nakagiri, N. Chem. Phys. Lett. 2001, 349, 172–177.
- Ge, Y.; Whitten, J. E. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 1174–1182. 2005, 8, 32–41.
- Cahen, D.; Kahn, A.; Umbach, E. Mater. Today 2005, 8, 32–41.