REFERENCES
- Kim , H. H. 2002 . VLSI Symp. Tech. Dig. ,
- Morimoto , T. 2000 . Jpn. J. Apl. Phys. , 39 : 2110
- Egger , U. 2003 . In: Ferroelectric Thin Films XI Symposium (Mat. Res. Soc. Symposium Proc. Vol 748 , 19 – 24 . Warendale : MRS .
- Bruchhaus , R. 2003 . In: Ferroelectric Thin Films XI Symposium (Mat. Res. Soc. Symposium Proc. Vol 748 , 3 – 12 . Warendale : MRS .
- Grossmann , M. , Lohse , O. , Bolten , D. , Boettger , U. , Waser , R. , Hartner , W. , Kastner , M. and Schindler , G. 2000 . Appl. Phys. Lett. , 76 : 363
- Al-Shareef , H. N. , Dimos , D. , Warren , D. W. and Tuttle , B. A. 1996 . J. Appl. Phys. , 80 : 4573
- Warren , W. L. , Al-Shareef , H. N. , Dimos , D. , Tuttle , B. A. and Pike , G. E. 1996 . Appl. Phys. Lett. , 68 : 1681
- Hase , T. , Noguchi , T. , Takemura , K. and Miyasaka , Y. 1998 . Jpn. J. Appl. Phys. , 37 : 5198
- Noh , K. H. , Kang , Y. M. , Yang , B. , Lee , S. W. , Lee , S. S. and Park , Y. J. 2002 . Jpn. J. Appl. Phys. , 41 : 6840
- Grossmann , M. , Lohse , O. , Bolten , D. , Boettger , U. , Schneller , T. and Waser , R. 2002 . J. Appl. Phys. , 92 : 2680
- Grossmann , M. , Lohse , O. , Bolten , D. , Boettger , U. and Waser , R. 2002 . J. Appl. Phys. , 92 : 2688