REFERENCES
- Evans , J. and Womack , R. 1988 . IEEE J. Solid-State Circuits , 23 : 1171
- Scott , J. F. and Paz de Araujo , C. A. 1989 . Science , 246 : 1400
- Jeon , B. G. , Choi , M. K. , Song , Y. , Oh , S. K. , Chung , Y. , Suh , K. D. and Kim , K. 2000 . IEEE J. Solid-State Circuits , 35 : 1690 http://www.csa.com/htbin/linkabst.cgi?issn=0018-9200&vol=35&iss=&firstpage=1690 http://dx.doi.org/10.1109%2F4.881216
- Chung , Y. , Jeon , B. G. and Suh , K. D. 2000 . IEEE J. Solid-State Circuits , 35 : 697 http://www.csa.com/htbin/linkabst.cgi?issn=0018-9200&vol=35&iss=&firstpage=697 http://dx.doi.org/10.1109%2F4.841494
- Ogiwara , R. , Tanaka , S. , Itoh , Y. , Miyakawa , T. , Takeuchi , Y. , Doumae , S. M. , Takenaka , H. , Kunishima , Y. , Shuto , S. , Hidaka , O. , Ohtsuki , S. and Tanaka , S. 2000 . IEEE J. Solid-State Circuit , 35 : 545 http://www.csa.com/htbin/linkabst.cgi?issn=0018-9200&vol=35&iss=&firstpage=545 http://dx.doi.org/10.1109%2F4.839914
- Sheikholeslami , A. and Gulak , P. G. 2000 . Proc. IEEE , 88 : 667 http://dx.doi.org/10.1109%2F5.849164
- Kim , H. R. , Jeong , S. , Jeon , C. B. , Kwon , O. S. , Hwang , C. S. , Han , Y. K. , Yang , D. Y. and Oh , K. Y. 2001 . J. Mater. Res. , 16 : 3583 http://www.csa.com/htbin/linkabst.cgi?issn=0884-2914&vol=16&iss=&firstpage=3583
- Jeong , S. , Zhao , J. S. , Kim , H. R. , Park , D.-Y. , Hwang , C. S. , Han , Y. K. , Yang , C. H. , Oh , K. Y. , Kim , S.-H. , Lee , D.-S. and Hac , J. 2003 . J. Electrochem. Soc. , 150 : C678 http://dx.doi.org/10.1149%2F1.1602082
- Zhao , J. S. , Park , D.-Y. , Seo , M. J. , Hwang , C. S. , Han , Y. K. , Yang , C. H. and Oh , K. Y. 2004 . J. Electrochem. Soc. , 151 : C283 http://dx.doi.org/10.1149%2F1.1676711
- Gilbert , S. R. , Hunter , S. , Ritchey , D. , Chi , C. , Taylor , D. V. , Amano , J. , Aggarwal , S. , Moise , T. S. , Sakoda , T. , Summerfelt , S. R. , Singh , K. K. , Kazemi , C. , Carl , D. and Bierman , B. 2003 . J. Appl. Phys. , 93 : 1713 http://dx.doi.org/10.1063%2F1.1534380
- Oikawa , T. , Funakubo , H. , Morioka , H. and Saito , K. 2003 . Integr. Ferroelectr. , 59 : 1421 http://www.csa.com/htbin/linkabst.cgi?issn=1058-4587&vol=59&iss=&firstpage=1421 http://dx.doi.org/10.1080%2F10584580390259867
- Kim , K. and Yong , K. 2003 . Electrochem. Solid-State Lett. , 6 : C106 http://www.csa.com/htbin/linkabst.cgi?issn=1099-0062&vol=6&iss=&firstpage=C106 http://dx.doi.org/10.1149%2F1.1587071
- Kadoshima , M. , Nabatame , T. , Hiratani , M. , Nakamura , Y. , Asano , I. and Suzuki , T. 2002 . Jpn. J. Appl. Phys. , 41 : L347 http://dx.doi.org/10.1143%2FJJAP.41.L347
- Lee , J. M. , Shin , J. C. , Hwang , C. S. , Kim , H. J. and Suk , C.-G. 1998 . J. Vac. Sci. Technol. , A16 : 2768
- Lesaicherre , P.-Y. , Yamamichi , S. , Takemura , K. , Yamaguchi , H. , Tokashiki , K. , Miyasaka , Y. , Yoshida , M. and Ono , H. 1995 . Integr. Ferroelectr. , 11 : 81
- Hwang , C. S. 1998 . Mater. Res. Eng. , B56 : 178
- Dey , S. K. , Goswami , J. , Das , A. , Cao , W. , Floyd , M. and Carpenter , R. 2003 . J. Appl. Phys. , 94 : 774 http://dx.doi.org/10.1063%2F1.1576513
- Hwang , C. S. , No , S. Y. , Park , J. , Kim , H. J. , Cho , H. J. , Han , Y. K. and Oh , K. Y. 2002 . J. Electrochem. Soc. , 149 : G585 http://dx.doi.org/10.1149%2F1.1506305
- Nagashima , K. , Aratani , M. and Funakubo , H. 2000 . Jpn. J. Appl. Phys. , 39 : L996 http://www.csa.com/htbin/linkabst.cgi?issn=0021-4922&vol=39&iss=&firstpage=L996 http://dx.doi.org/10.1143%2FJJAP.39.L996
- Aratani , M. , Oikawa , T. , Ozeki , T. and Funakubo , H. 2001 . Appl. Phys. Lett. , 79 : 1000 http://dx.doi.org/10.1063%2F1.1391229
- Tokita , K. , Aratani , M. and Funakubo , H. 2003 . Appl. Phys. Lett. , 82 : 23
- Saito , K. , Oikawa , T. , Kurosawa , T. , Akai , T. and Funakubo , H. 2002 . Jpn. J. Appl. Phys. , 41 : 6730 http://www.csa.com/htbin/linkabst.cgi?issn=0021-4922&vol=41&iss=&firstpage=6730 http://dx.doi.org/10.1143%2FJJAP.41.6730