REFERENCES
- Fujita , H. , Goto , S. Sakashita , M. 2000 . Jpn. J. Appl. Phys. , 39 : 7035
- Scott , J. F. and Paz de Araujo , C. A. 1989 . Science , 246 : 1400
- Dey , S. and Zuleeg , R. 1990 . Ferroelectrics , 108 : 37
- Miranda Salvado , Wu I. M. , Vilarinho , P. M. and Baptista , J. L. 1997 . J. Eur. Ceram. Soc. , 17 : 1443
- Ramesh , R. , Chan , W. K. Wilkens , B. 1992 . Appl. Phys. Lett. , 61 : 1537
- Ramesh , R. , Sands , T. , Keramidas , V. G. and Fork , D. K. 1994 . Mater. Sci. Eng. , B22 : 283
- Takayma , R. and Tomita , Y. 1989 . J. Appl. Phys. , 65 : 1666
- Velu , G. , Remiens , D. and Thierry , B. 1997 . Eur. Ceram. Soc. , 17 : 1749
- Zhang , Q. and Whatmore , R. W. 2004 . Materials Science and Engineering , B109 : 136
- Cattan , E. , Velu , G. Jaber , B. 1997 . Appl. Phys. Lett. , 70 : 31
- Neung-Ho , C ho and Kim , Ho-Gi . 1995 . Microelectronic Engineering , 29 : 243
- LiuU , Weiguo , Ko , Jong Soo and Zhu , Weiguang . 2000 . Thin Solid Films , 371 : 254
- Kim , Chang Jung , Lee , Yong Kyun Lee , Kyu Mann . 2001 . IEEE ISSD , : 925
- Yoon , Ki Hyun , Shin , Ji Hwan Park , Jeong Hwan . 1998 . J. Appl. Phys. , 83 : 3626
- Doi , Hidekazu . 1994 . Jpn. J. Appl. Phys. , 33 : 5159
- Muralt , P. , Maeder , T. Sagalowicz , L. 1998 . J. Appl. Phys. , 83 : 71
- Duval , F. F. C. , Dorey , R. A. Haigh , R. H. 2003 . Thin Solid Films , 444 : 235
- Gong , Wen , Li , Jing-Feng Chu , Xiangcheng . 2004 . Acta Materialia , 52 : 2787
- Al-shareef , H. N. , Bellur , K. R. , Auciello , O. and Kingon , A. I. 1994 . Thin Solid Films , 252 : 73
- Yamauchi , S. and Yoshimaru , M. 1996 . Jpn. J. Appl. Phys. , 35 : 1553
- Muralt , P. , Maeder , T. , Sagalowicz , L. and Hiboux , S. 1998 . J. Appl. Phys. , 83 : 3835
- Bouregba , R. , Poullain , G. , Vilquin , B. and Murray , H. 2000 . Mater. Res. Bull. , 35 : 1381
- Liu , W. , Ko , J. and Zhu , W. 2001 . Mater. Lett. , 49 : 122
- Warren , W. L. , Pike , G. E. , Tuttle , B. A. and Dimos , D. 1997 . Appl. Phys. Lett. , 70 : 2010
- Lee , E. G. , Wouters , D. J. , Willems , G. and Maes , H. E. 1996 . Appl. Phys. Lett. , 69 : 1223
- Park , B. H. , Noh , T. W. , Lee , J. , Kim , C. Y. and Jo , W. 1997 . Appl. Phys. Lett. , 70 : 1101
- Okamura , S. , Miyata , S. Mizutami , Y. 1999 . Jpn. J. Appl. Phys. , 38 : 5364 Part 1
- Nagasawa , D. and Nozawa , H. 1999 . Jpn. J. Appl. Phys. , 38 : 5406 Part 1
- Liu , W. , Ko , J. and Zhu , W. 2001 . Mater. Lett. , 49 : 122
- Xu , Y. , Chen , C. J. , Xu , R. and Mackenzie , J. D. 1990 . J. Appl. Phys. , 67 : 2985
- Dey , S. K. , Lee , J. J. and Alluri , P. 1995 . Jpn, J. Appl. Phys. , 34 : 3142 Part 1
- Lee , J. J. and Desu , S. B. 1995 . Ferroelectr. Lett. Sect. , 20 : 27
- Robels , U. , Calderwood , J. H. and Arlt , G. 1995 . J. Appl. Phys. , 77 : 4002
- Abe , K. , Yanase , N. , Yasumoto , T. and Kawakubo , T. 2002 . Jpn. J. Appl. Phys. , 41 : 6065 Part 1
- Lu , T. and Cao , W. 2003 . Microelectron. Eng. , 66 : 818
- Baudry , L. 1999 . J. Appl. Phys. , 86 : 1096
- Lee , K. W. , Kim , Y. I. and Lee , W. J. 2002 . Ferroelectrics , 271 : 1769
- Grossmann , M. , Lohse , O. Bolten , D. 2002 . J. Appl. Phys. , 92 : 2680
- Wong , C. K. and Shin , F. G. 2005 . Appl. Phys. Lett. , 86 : 042901