REFERENCES
- Fleischer , M. , Hanrieder , W. and Meixner , H. 1990 . Thin Solid Films , 190 : 93
- Hamberf , I. and Granqvist , C. G. 1986 . TJ. Appl. Phys. , 60 : R123
- Rebien , M. , Henrion , W. , Hong , M. , Mannaerts , J. P. and Fleischer , M. 2002 . Appl. Phys. Lett. , 81 : 250
- Kim , H. and Kim , W. 1987 . J. Appl. Phys. , 62 : 2000
- Ortiz , A. , Alonso , J. C. , Andrade , E. and Urbiola , C. 2001 . J. Electrochemical Soc. , 148 : F26
- Al-Kuhaili , M. F. , Durrani , S. M. A. and Khawaja , E. E. 2003 . Appl. Phys. Lett. , 83 : 4533
- Orita , M. , Ohta , H. and Hirano , M. 2000 . Appl. Phys. Lett. , 77 : 4166
- Lee , W. J. , You , I. K. , Ryu , S. O. , Yu , B. G. , Cho , K. I. , Yoon , S. G. and Lee , C. S. 2001 . Jpn. J. Appl. Phys. , 40 : 6941
- Lee , W. J. , Shin , W. C. , Chae , B. G. , Ryu , S. O. , You , I. K. , Cho , S. M. , Yu , B. G. and Shin , B. C. 2002 . Integr. Ferroelectr. , 46 : 275
- Shan , F. K. , Liu , G. X. , Lee , W. J. , Lee , G. H. , Kim , I. S. and Shin , B. C. 2005 . J. Appl. Phys. , 98 : 023504
- Park , J. J. , Lee , W. J. , Lee , G. H. , Kim , I. S. , Shin , B. C. and Yoon , S. G. 2004 . Integr. Ferroelectr. , 68 : 129
- Shan , F. K. , Liu , G. X. , Lee , W. J. , Lee , G. H. , Kim , I. S. and Shin , B. C. 2006 . Integr. Ferroelectr. , 80 : 197
- Koo , J. Y. , Kim , Y. D. and Jeon , H. T. 2002 . J. Appl. Phys. , 41 : 3043
- Torii , K. , Shiraishi , K. , Miyazaki , S. , Yamabe , K. , Biero , M. , Chikyow , T. , Yamada , K. , Kitajima , H. and Arikado , T. Technical Digest of 2004 IEEE International Electron Device Meeting . June 15–17 , San Fransisco , USA. pp. 129