References
- Kroto , H. W. 1992 . Angew.Chem.Int.Ed.Engl. , 31 : 111
- Kratschmer , W. and Huffman , D. R. 1992 . Carbon. , 30 : 114
- Taylor , R. and Walton , D. R.M. 1993 . Nature. , 363 : 685
- Curl , R. F. 1993 . Phil.Trans.R.Soc.London A. , 343 : 19
- Wang , C. Z. , Xu , C. H. , Chan , C. T. and Ho , K. M. 1992 . J. Phys. Chem. , 96 : 3565
- Gao , X. and Gao , J. 1994 . J.Phys.Chem. , 98 : 5618
- Lamb , L. D. and Huffman , D. R. 1993 . J.Phys.Chem.Solids. , 54 : 1635
- Gray , E. W. 1978 . IEEE Trans.Plasma Sci. , PS-6 : 384
- Lange , H. , Byszewski , P. , Huczko , A. and Ukalski , P. 1995 . VDI Berichte. , 1166 : 325
- Taylor , G. H. , Fitz Gerald , J. D. , Pang , L. and Wilson , M. A. 1994 . J.Cryst.Growth. , 135 : 157
- Wang , X. K. , Lin , X. W. , Dravid , V. P. , Ketterson , J. B. and Chang , R. P.H. 1995 . Appl.Phys.Lett. , 66 : 427
- Huczko , A. , Lange , H. and Byszewski , P. 1994 . Pol.J.Appl. Chem. , 37 : 475
- Huczko , A. , Lange , H. and Byszewski . 1995 . 12 Intern.Symp. on Plasma Chemistry, Massachusetts, USA. , 3 : 1183
- Mieno , T. 1993 . J.Phys.Soc.Jap. , 62 : 4146
- Chow , L. , Wang , H. , Kleckley , S. , Daly , T. K. and Buseck , P. R. 1995 . Appl.Phys.Lett. , 66 : 430
- Scrivens , W. A. and Tour , J. M. 1992 . J.Org.Chem. , 57 : 6932
- Wickens , A. J. 1976 . Chem & Ind. , 7 : 316
- Baddour , R. F. and Iwasyk , J. M. 1962 . Ind.Eng.Chem., Process Des.Dev. , 1 : 169
- McKelliget , J. W. and Szekely , J. 1983 . J.Phys.D:Appl. Phys. , 16 : 1007
- Davies , C. and Abrahamson , J. 1983 . Ind.Eng.Chem., Process Des.Dev. , 22 : 226
- Chelikovsky , J. R. 1991 . Phys. Rev. Lett. , 67 : 2970