References
- Fan , A. , Rahman , A. and Reif , R. 2001 . Electrochem. Solid State Lett. , 2 : 534
- Guarini , K. W. , Topol , A. W. , Ieong , M. , Yu , R. , Shi , L. , Newport , M. R. , Frank , D. J. , Singh , D. V. , Cohen , G. M. , Nitta , S. V. , Boyd , D. C. , O’Neil , P. A. , Tempest , S. L. , Pogge , H. B. , Purushothaman , S. and Haensch , W. E. 2002 . IEDM Tech. Digest 943 – 945 .
- List , S. , Webb , C. and Kim , S. 2002 . Proceedings of Advanced Metallization Conference 29 – 36 .
- Black , B. , Nelson , D. , Webb , C. and Samra , N. 2004 . Proceedings of International Conference on Computer Design (IEEE) , : 316 – 318 .
- Hongoh , M. , Miura , H. , Ueoka , T. and Tsujino , J. 2006 . Jpn. J. Appl. Phys. , 45 : 4806
- Tanida , K. , Umemoto , M. , Tomita , Y. , Tago , M. , Kajiware , R. , Akiyama , Y. and Takahashi , K. 2003 . Jpn. J. Appl. Phys. , 42 : 2198
- Tsujino , J. , Ueoka , T. , Asada , Y. , Taniguchi , S. and Iwamura , Y. 1998 . Jpn. J. Appl. Phys. , 37 : 2996
- Naruse , K. and Watanabe , Y. 2006 . Jpn. J. Appl. Phys. , 45 : 4812
- Tan , S. C. , Chan , Y. C. , Chiu , Y. W. and Tan , C. W. 2004 . Microelectron. Rel. , 44 : 495