REFERENCES
- R. M. Walser and R. W. Bené, Appl. Phys. Lett. 28, 624 (1976).
- B. Y. Tsaur, S. S. Lau, J. W. Mayer and M.-A. Nicolet, Appl. Phys. Lett. 38, 922 (1981).
- U. Gösele and K. N. Tu, J. Appl. Phys. 53, 3252 (1982).
- K. N. Tu, Ann. Rev. Mater. Sci. 15, 147 (1985).
- K. N. Tu, in Advances in Electronic Materials (edited by B. W. Wessels and G. Y. Chin), p. 147., Ch. 7, American Society for Metals, Metals Park, OH (1986).
- A. Hiraki, in Layered Structures and Interface Kinetics (edited by S. Furukawa), p. 47., KTK Scientific Publishers, Tokyo (1985).
- F. M. d'Heurle and P. Gas, J. Mater. Res. 1, 205 (1986).
- G. Ottaviani, Thin Solid Films 140, 3 (1986).
- R. W. Bené, J. Appl. Phys. 61, 1826 (1987).
- Y. I. Dybkov, J. Mater. Sci. 22, 4233 (1987); and J. Phys. Chem. Solids 53, 703 (1992).
- L. Borucki, R. Mann, G. Miles, J. Slinkman and T. Sullivan, presented at 1988 IEEE International Electron Devices Meeting, San Francisco, Dec. 14-16, 1988.
- U. Gösele and K. N. Tu, J. Appl. Phys. 66, 2619 (1989).
- F. M. d'Heurle, J. Vac. Sci. Technol. A7, 1467 (1989).
- R. Pretorius, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 25, 15 (1984).
- R. Pretorius, Vacuum 41, 1038 (1990).
- R. Pretorius, A. M. Vredenberg, F. W. Saris and R. de Reus, J. Appl. Phys. 70, 3636 (1991).
- V. V. Tokarev, A. N. Likholet and B. N. Zon, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 181, 151 (1990).
- J. Philibert, Appl. Surf. Sci. 53, 74 (1991).
- C. V. Thompson, J. Mater. Res. 7, 367 (1992).
- A. I. Barg, B. S. Bokstein and L. M. Klinger, J. Appl. Phys. 72, 1356 (1992).
- W. Losch, Thin Solid Films 216, 225 (1992).
- R. W. Bené, Appl. Phys. Lett. 41, 529 (1982).
- R. Pretorius, R. de Reus, A. M. Vredenberg and F. W. Saris, Mater. Lett. 9, 494 (1990).
- R. Pretorius, T. K. Marais, A. E. Nlulles and D. Knoesen, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 238, 475 (1991).
- Jian Li, J. W. Strane, S. W. Russell, S. Q. Hong and J. W. Mayer, J. Appl. Phys. 72, 2810 (1992).
- R. W. Bower and J. W. Mayer, Appl. Phys. Lett. 20, 359 (1972).
- R. Beyers and R. Sinclair, J. Appl. Phys. 57, 5240 (1985).
- Harrie J. W. van Houtum and Ivo. J. M. M. Raaijmakers, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 54 37 (1986).
- M. A. Nicolet and S. S. Lau, in VLSI Electronics Microstructure Science, V6, (edited by N. G. Einsprunch and Graydon B. Lar-rabee), p. 329., Ch. 6, Academic Press, New York (1983).
- S. P. Murarka and D. B. Fraser, J. Appl. Phys. 51, 342 (1980).
- R. W. Bette and H. Y. Yang, J. Electron. Mater. 12, 1 (1983).
- L. S. Hung, J. Gyulai, J. W. Mayer, S. S. Lau and M.-A. Nicolet, J. Appl. Phys. 54, 5076 (1983).
- R. Butz, G. W. Rubloff, T. Y. Tan and P. S. Ho, Phys. Rev. B30, 5421 (1984).
- K. N. Tu, J. F. Ziegler and C. J. Kircher, Appl. Phys. Lett. 23, 493 (1973).
- B. I. Fomin, A. E. Gershinskii, E. I. Cherepov and F. L. Edelman, Phys. Status Solidi A36, K89 (1976).
- P. A. Psaras, M. Eizenberg and K. N. Tu, J. Appl. Phys. 56, 3439 (1984).
- R. J. Schultz and L. R. Testardi, J. Appl. Phys. 50, 5773 (1979).
- S. P. Murarka, Silicides for VSLI Applications, Academic Press, New York (1983).
- M. Nathan, J. Appl. Phys. 63, 5534 (1988).
- J. O. Olowolafe, M.-A. Nicolet and J. W. Mayer, J. Appl. Phys. 47, 5183 (1976).
- M. Nathan and S. W. Duncan, Thin Solid Films 123, 69 (1984).
- R. Pretorius, in Proc. Symp. Thin Film Interfaces and Reactions (edited by John E. E. Baglin and John M. Poate), p. 481., The Electrochemical Society, Inc., Princeton, NJ (1980).
- L. Zhang, MSc Thesis, University of Alberta, Canada, 1990.
- L. Zhang and D. G. Ivey, J. Mater. Res. 6 1518 (1991).
- K. E. Sundstrom, S. Petersson and P. A. Tove, Phys. Status Solidi A20, 653 (1973).
- M. Eizenberg and K. N. Tu, J. Appl. Phys. 53. 6885 (1982).
- S. S. Lau, J. S. Y. Feng, J. O. Olowolafe and M. A. Nicolet. Thin Solid Films 25, 415 (1975).
- J. Alvarez, J. J. Hinarejos, E. G. Michel, J. M. Gallego, A. L. Vazquez de Parga, J. de la Figuera, C. Ocal and R. Miranda. Appl. Phys. Lett. 59, 99 (1991).
- K. Radermacher, S. Mantl, C. Dieker, H. Liith and C. Freiburg. Thin Solid Films 215, 76 (1992).
- K. N. Tu and J. W. Mayer, in Thin Film-Interdiffitsion and Reac-tions (edited by J. M. Poate, K. N. Tu and J. W. Mayer). p. 359. Ch. 10, Wiley, New York (1978).
- G. Ottaviani, J. Vac. Sci. Techtzol. 16, 1112 (1979).
- K. N. Tu, G. Ottaviani, R. D. Thompson and J. W. Mayer. J. Appl. Phys. 53. 4406 (1982).
- R. J. Schreutelkamp, P. Vandenabeele, B. Deweerdt, W. Coppye, C. Vermeiren, A. Lauwers and K. Maex, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 260, 145 (1992).
- C. Zaring, B. G. Svensson and M. Ostling, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 260, 157 (1992).
- C. D. d'Anterroches, Surf. Sci. 168, 75 (1986).
- F. Mahmood, H. Ahmed, C. Jeynes and W. P. Gillin, Appl. Surf. Sci. 59, 55 (1992).
- F. Hong, B. K. Patnaik and G. A. Rozgonyi, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 238, 587 (1992).
- F. Hong, B. K. Patnaik and G. A. Rozgonyi, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 260, 187 (1992).
- N. Setton and J. van der Spiegel, Appl. Surf. Sci. 38, 62 (1989).
- S. Q. Wang and J. W. Mayer, J. Appl. Phys. 65. 1957 (1989).
- S. L. Hsia, T. Y. Tan, P. Smith and G. E. McGuire, J. Appl. 70, 7579 (1991).
- F.-M. Yang and M.-C. Chen, Jpn. J. Appl. Phys. 31, 1004 (1992).
- J. O. Olowolafe, M.-A. Nicolet and J. W. Mayer, Thin Solid Films 38, 143 (1976).
- L. R. Zheng, L. S. Hung and J. W. Mayer, J. Vac. Sci. Tecluzol. Al, 758 (1983).
- J. C. Barbour, J. W. Mayer and L. R. Zheng, Inst. Phys. Conf. 76, 163 (1985).
- J. C. Barbour, P. E. Batson and J. W. Mayer, Mat. Res. Soc. Situp. Proc. 54, 29 (1986).
- G. Majni, F. Della Valle and C. Nobili. J. Phys. D: Appl. Phys. 17, L77 (1984).
- F. M. d'Heurle, C. S. Petersson, J. E. E. Baglin. S. J. La Placa and C. Y. Wong, J. Appl. Phys. 55, 4208 (1984).
- L. R. Zheng, L. S. Hung and J. W. Mayer, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 54, 45 (1986).
- A. Appelbaum, M. Eizenberg and R. Brener, J. Appl. Pins. 55, 914 (1984).
- R. S. Rastogi, V. D. Vankar and K. L. Chopra. J. Appl. Phys. 67, 6369 (1990).
- G. A. Rozgonyi, J. H. Lee, D. Knoesen, D. Adams, B. Patnaik. N. Parikh, A. S. M. Salih and P. Balducci, Appl. Phys. Lett. 58. 729 (1991).
- R. de Reus, H. C. Tissink and F. W. Saris, J. Mater. Res. 5. 341 (1990).
- J. T. Mayer, R. F. Lin and E. Garfunkel, Surf. Sci. 265, 102 (1992).
- Y. Igarashi, T. Yamaji, S. Nishikawa and S. Ohno, Appl. Surf. Sci. 41/42, 282 (1989).
- C. A. Sukow and R. J. Nemanich, Mat. Res. Soc. Situp. Proc. 260, 251 (1992).
- J. Y. Cheng and L. J. Chen, Appl. Phys. Lett. 56, 457 (1990).
- J. Y. Cheng and L. J. Chen, J. Appl. Phys. 68, 4002 (1990).
- J. Baglin, J. Dempsey, W. Hammer, F. d'Heurle, S. Petersson and C. Serrano, J. Electron. Mater. 8, 641 (1979).
- A. Guivarc'h, P. Auvray, L. Berthou, M. Le Cun, J. P. Boulet, P. Henoc, G. Pelous and A. Martinez, J. Appl. Phys. 49. 233 (1978).
- K. Holloway, K. B. Do and R. Sinclair, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 103, 167 (1988).
- R. J. Schultz and L. R. Testardi, Appl. Phys. Lett. 34, 797 (1979).
- N. Cheung, S. S. Lau, M.-A. Nicolet and J. W. Mayer, in Proc. Synzp. Thin Film Interfaces and Reactions (edited by John E. E. Baglin and John M. Poate), p. 494, The Electrochemical Society, Inc., Princeton, NJ, 1980.
- M. O. Aboelfotoh, A. Alessandrini and F. M. d'Heurle, Appl. Phys. Lett. 49, 1242 (1986).
- R. Anton and U. Neukirch, Appl. Surf. Sci. 29, 287 (1987).
- J. F. Ziegler, J. W. Mayer, C. J. Kircher and K. N. Tu, J. Appl. Phys. 44, 3851 (1973).
- F. C. T. So, C.-D. Lien and M.-A. Nicolet, J. Vac. Sci. Technol. A3, 2284 (1985).
- S. Rigo, A. Turos and G. Velasco, Proc. 7th Int. Vac. Congr. & 3rd Int. Conf Solid Surface (Vienna 1977), p. 1109 (1977).
- C. S. Petersson, J. E. E. Baglin, F. M. d'Heurle, J. J. Dempsey, J. M. E. Harper, C. M. Serrano and M. Y. Tsai, in Proc. Symp. Thin Film Interfaces and Reactions (edited by John E. E. Baglin John M. Poate), p. 290, The Electrochemical Society, Inc., Princeton, NJ (1980). See also G. V. Kidson, J. Nucl. Mater. 3, 21 (1961).
- A. Hiraki, M.-A. Nicolet and J. W. Mayer, Appl. Phys. Lett. 18, 178 (1971).
- C. Canali, C. Catellani, M. Prudenziati, W. H. Wadlin and C. A. Evans Jr, Appl. Phys. Lett. 31, 43 (1977).
- C. A. Crider and J. M. Poate, Appl. Phys. Lett. 36, 417 (1980).
- H. Muta and D. Shinoda, J. Appl. Phys. 43, 2913 (1972).
- J. M. Poate and T. C. Tisone, Appl. Phys. Lett. 24, 391 (1974).
- C. A. Crider, J. M. Poate and J. E. Rowe, in Proc. Symp. Thin Film Interfaces and Reactions (edited by John E. E. Baglin John M. Poate), p. 135, The Electrochemical Society, Inc., Princeton, NJ (1980).
- K. N. Tu, W. N. Hammer and J. O. Olowolafe, J. Appl. Phys. 51, 1663 (1980).
- M. Eizenberg and K. N. Tu, J. Appl. Phys. 53, 1577 (1982).
- W. Y. Hsieh, J. H. Lin and L. J. Chen, Appl. Phys. Lett. 62, 1088 (1993).
- S. Herd, K. N. Tu and K. Y. Ahn, Appl. Phys. Lett. 42, 597 (1983).
- J. M. M. De Nijs and A. Van Silfhout, Appl. Surf Sci. 40, 349 (1990).
- J. M. M. De Nijs and A. Van Silfhout, Appl. Surf Sci. 40, 359 (1990).
- I. J. M. M. Raaijmakers and Ki-Bum Kim, J. Appl. Phys. 67,6255 (1990).
- K. Holloway and R. Sinclair, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 77, 357 (1987).
- I. J. M. M. Raaijmakers, A. H. Reader and P. H. Oosting, J. Appl. Phys. 63, 2790 (1980).
- I. J. M. M. Raaijmakers, P. H. Oosting and A. H. Reader, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 103, 229 (1988).
- A. E. Morgan, E. K. Broadbent, K. N. Ritz, D. K. Sadana and B. J. Burrow, J. Appl. Phys. 64, 344 (1988).
- K. Holloway and R. Sinclair, J. Less Common Metals 140, 139 (1988).
- R. Sinclair, K. Holloway, K. B. Kim, D. H. Ko, A. S. Bhansali, A. F. Schwartzman and S. Ogawa, Inst. Phys. Conf, Series no. 100, 599 (1989).
- W. Lur and L. J. Chen, Appl. Phys. Lett. 54, 1217 (1989).
- A. Kirtikar and R. Sinclair, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 260, 227 (1992).
- K. Holloway, R. Sinclair and M. Nathan, J. Vac. Sci. Technol. A7, 1479 (1989).
- E. Ma, W. J. Meng, W. L. Johnson and M.-A. Nicolet, Appl. Phys. Lett. 53, 2033 (1988).
- J. Y. Cheng and L. J. Chen, Appl. Phys. Lett. 58,45 (1991).
- J. Y. Cheng and L. J. Chen, J. Appl. Phys. 69, 2161 (1991).
- J. C. Hensel, J. M. Vandenberg, L. F. Mattheiss, F. C. Unterwald and A. Maury, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 77, 737 (1987).
- H. Jeon, C. A. Sukow, J. W. Honeycutt, T. P. Humphreys, R. J. Nemanich and G. A. Rozgonzi, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 181, 559 (1990).
- Y. L. Corcoran, A. H. King, N. de Lanerolle and B. Kim, J. Elect. Mater. 19, 1177 (1990).
- R. J. Nemanich, H. Jeon, C. A. Sukow, J. W. Honeycutt and G. A. Rozgonyi, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 260, 195 (1992).
- L. A. Clevenger, J. M. E. Harper, C. Cabral Jr, C. Nobili, G. Ottaviani and R. Mann, J. Appl. Phys. 72, 4978 (1992).
- J. Y. Cheng, H. C. Cheng and L. J. Chen, J. Appl. Phys. 61,2218 (1987).
- J. M. Gibson, D. Loretto and D. Cherns, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 181, 91 (1990).
- H. Föll, P. S. Ho and K. N. Tu, Philos. Mag. A45, 31 (1982).
- A. L. Vazquez de Parga, J. de La Figuera, C. Ocal and R. Mirasda, Ultramicroscopy 42-44, 845 (1992).
- F. M. d'Heurle, J. Mater. Res. 3, 167 (1988).
- R. W. Bené and R. M. Walser, J. Vac. Sci. Technol. 14, 925 (1977).
- Lin Zhang and D. G. Ivey, J. Appl. Phys. 71, 4314 (1992).
- Lin Zhang and D. G. Ivey, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 260, 257 (1992).
- Lin Zhang and D. G. Ivey, Thin Solid Films (in press).
- Lin Zhang, PhDThesis, University of Alberta, Canada (1993).
- O. F. Devereux, in Topics in Metallurgical Thermodynamics, Ch. 13, John Wiley and Sons, Inc., New York (1983).
- I. Prigogine, Introduction to Thermodynamics of Irreversible Processes, 3rd edn, John Wiley and Sons, Inc., New York (1967).
- G. Nicolis and I. Prigogine, Self-Organization in Noneguilibrium Systems, Pt I, John Wiley and Sons, Inc., New York (1977).
- H. J. Kreuzer, Noneguilibrium Thermodynamics and its Statistical Foundations, Oxford University Press, New York (1981).
- J. W. Cahn and J. E. Hilliard, J. Chem. Phys. 28, 258 (1958).
- I. N. Levine, in Physical Chemistry, 3rd edn, Ch. 23, McGraw-Hill, Inc., New York (1988).
- R. B. Schwarz and W. L. Johnson, Phys. Rev. Lett. 51,415 (1983).
- R. T. Tung, J. M. Gibson and J. M. Poate, Phys. Rev. Lett. 50, 429 (1983).