References
- N. Wang, Y. Cai and R. Q. Zhang: Mater. Sci. Eng. R, 2008, 60, 1.
- S. Y. Chou, P. R. Krauss, W. Zhang, L. Guo and L. J. Zhuang: J. Vac. Sci. Technol. B, 1997, 15, 2897.
- L. Schubert, P. Werner, N. D. Zakharov, G. Gerth, F. M. Kolb, L. Long, U. Gosele and T. Y. Tan: Appl. Phys. Lett.,, 2004, 84, 4968.
- S. Ohkouchi, Y. Nakamura, N. Ikeda, Y. Sugimoto and K. J. Asakawa: J. Cryst. Growth,, 2007, 30, 744.
- F. Jia, L. Zhang, X. Shang and Y. Yang: Adv. Mater., 2008, 20, 1050.
- E. C. Walter, M. P. Zach, F. Favier, B. J. Murray, K. Inazu, J. C. Hemminger and R. M. Penner: J. Chem. Phys. Chem., 2003, 4, 131.
- J. C. Hulteen, V. P. Menon and C. R. Martin: J. Chem. Soc. Faraday Trans., 1996, 92, 4029.
- T. L. Wade and J. -E. Wegrowe: Eur. Phys. J. Appl. Phys., 2005, 29, 3.
- T. J. Merkel, K. P. Herlihy, J. Nunes, R. M. Orgel, J. P. Rolland and J. M. DeSimone: Langmuir, 2010, 26, 13086.
- G. D. Sulka, L. Zaraska and W. J. St epniowski: ‘Anodic porous alumina as a template for nanofabrication’, in ‘Encyclopedia of nanoscience and nanotechnology’, (ed. H. S. Nalwa., 2nd edn, 261–349; 2011, Los Angeles, CA: American Scientific Publishers .
- C. T. J. Low, M. de la Toba Corral and F. C. Walsh: Trans. IMF, 2010, 89, 44.
- C. Ponce de León and F. C. Walsh: Surf. Coat. Technol., 2014, 259, 676.
- G. D. Sulka, A. Eftekhari and (eds.): ‘Nanostructured Materials in Electrochemistry’, 1; 2008, Weinheim, Wiley-VCH.
- G. D. Sulka and W. J. Stepniowski: Electrochim. Acta, 2009, 54, 3683.
- Z. Hu, C. Kong, Y. Han, H. Zhao, Y. Yang and H. Wu: Mater. Lett., 2007, 61, 3931.
- Q. Xu, G. Meng, X. Wu, Q. Wie, M. Kong, X. Zhu and Z. Chu: Chem. Mater., 2009, 21, 2397.
- R. Inguanta, S. Piazza and C. Sunseri: Electrochem. Commun., 2009, 11, 1385.
- J. Choi, G. Sauer, K. Nielsch, R. B. Wehrspohn and U. Gosele: J. Mater. Chem., 2003, 13, 1100.
- J. Choi, J. G. Sauer, P. Goring, K. Nielsch, R. B. Wehrspohn and U. Gosele: Chem. Mater., 2003, 15, 776.
- B. L. Broglin, A. Andreu, N. Dhussa Jr, J. A. Heath, J. Gerst, B. Dudley, D. Holland and M. E. Kouedi: Langmuir, 2007, 23, 4563.
- K. Yasui, K. Nishio and H. Masuda: Jpn. J. Appl. Phys., 2005, 44, 1181.
- K. -T. Huang, P. -C. Kuo and Y. -D. Yao: Thin Solid Films, 2009, 517, 3243.
- X. -Y. Sun, F. -Q. Xu, Z. -M. Li and W. -H. Zhang: Mater. Chem. Phys., 2005, 90, 69.
- A. Kolmakov, Y. Zhang and M. Moskovits: Nano Lett., 2003, 3, 1125.
- G. Sauer, G. Brehm, S. Schneider, K. Nielsch, R. B. Wehrspohn, J. Choi, J. H. Hofmeister and U. Gosele: J. Appl. Phys., 2002, 91, 3243.
- L. Hu, H. S. Kim, J. -Y. Lee, P. Peumans and Y. Cui: ACS Nano, 2010, 4, 2955.
- J. -Y. Lee, S. T. Connor, Y. Cui and P. Peumans: Nano Lett., 2008, 8, 689.
- Y. Leterrier, L. Medico, F. Demarco, J. A. E. Manson, U. Betz, M. F. Escol, M. K. Olsson and M. F. Atamny: Thin Solid Films, 2004, 460, 156.
- Y. Sun: Nanoscale, 2010, 2, 1626.
- F. C. Walsh, D. V. Bavykin, L. Torrente-Murciano, A. A. Lapkin and B. A. Cressey: Trans. IMF, 2006, 84, 293.
- J. -H. Lim, A. Rotaru, S. -G. Min, L. Malkinski and J. B. Wiley: J. Mater. Chem., 2010, 20, 9246.
- S. Ono, M. Saito and H. Asoh: Electrochem. Solid-State Lett., 2004, 7, B21.
- O. Jessensky, F. Muller and U. Gosele: J. Electrochem. Soc., 1998, 145, 3735.
- N. -Q. Zhao, X. -X. Jiang, C. -S. Shi, J. -J. Li, Z. -G. Zhao and X. -W. Du: J. Mater. Sci., 2006, 42, 3878.
- Y. Xu, G. E. Thompson and G. C. Wood: Trans. IMF, 1986, 63, 98.
- S. Shingubara: J. Nanopart. Res., 2003, 5, 17.
- A. Bai, C. C. Hu, Y. F. Yang and C. C. Lin: Electrochim. Acta, 2008, 53, 2258.
- L. Zaraska, G. D. Sulka, J. Szeremeta and M. Jaskula: Electrochim. Acta, 2010, 55, 4377.
- S. R. Morrison, Ch. 8, ‘Electrochemistry at semiconductor and oxidized metal electrodes’, 306; 1980, New York, NY, USA, Plenum.
- G. D. Sulka and K. Parkola: Thin Solid Films, 2006, 515, 338.
- S. Prasad and J. Quijano: Biosens. Bioelectron., 2006, 7, 1219.
- M. Mohammadi, A. Yazdani, M. E. Bahrololoom and A. Alfantazi: J. Coat. Technol. Res., 2013, 10, 219.
- T. Maiyalagan: Appl. Catal. A Gen., 2008, 340, 191.
- C. R. Martin: Adv. Mater., 1991, 3, 457.
- C. R. Martin, L. S. Van Dyke, Z. H. Cai and W. B. Liang: J. Am. Chem. Soc., 1990, 112, 8976.
- R. V. Parthasarathy and C. R. Martin: Chem. Mater., 1994, 6, 1627.
- C. J. Brumlik and C. R. Martin: J. Am. Chem. Soc., 1991, 113, 3174.
- A. Streitwieser Jr and C. H. Heathcock: ‘Introduction to organic chemistry’, 710; 1985, New York, Macmillan.
- J. Belloni, M. Mostafavi, H. Remita, J. -L. Marignier and M.-O. Delcout: New J. Chem., 1998, 22, 1239.
- H. M. Bok, S. Kim, S. -H. Yoo, S. K. Kim and S. Park: Langmuir, 2008, 24, (8), 4168.
- Y. G. Sun, B. Gates, B. Mayers and Y. N. Xia: Nano Lett., 2002, 2, 165.