References
- Attardo , M. J. and Rosenberg , R. 1970 . J. appl. Phys. , 41 : 2381
- Berenbaum , L. 1971 . J. appl. Phys. , 42 : 880
- Blech , I. A. 1972 . Thin Solid Films , 13 : 117
- Blech , I. A. and Kinsbron , E. 1975 . Thin Solid Films , 25 : 327
- Blech , I. A. and Meieran , E. S. 1969 . J. appl. Phys. , 40 : 485
- Chuang , T.-J. , Chu , J.-L. and Lee , S. 1992 . Acta metall. mater. , 40 : 2683
- Chuang , T.-J. and Rice , J. R. 1973 . Acta metall. , 21 : 1625
- D'heurle , F. M. and Ho , P. S. 1978 . Thin Films: Interdiffusion and Reactions , Edited by: Poate , J. M. , Tu , K. N. and Mayer , J. W. 243 – 303 . New York : Wiley-Interscience) .
- Dreyer , M. L. and Varker , C. J. 1992 . Appl. Phys. Lett. , 60 : 1860
- Hummel , R. E. 1994 . Int. Mater. Revs. , 39 : 97
- Hummel , R. E. and Geier , H. J. 1975 . Thin Solid Films , 25 : 335
- Klinger , L. M. , Chu , X. , Mullins , W. W. and Bauer , C. L. 1996 . J. appl. Phys. , 80 : 6670
- Kwok , T. and Ho , P. S. 1988 . Diffusion Phenomena in Thin Films and Microelectronic Materials , Edited by: Gupta , D. and Ho , P. S. 369 – 431 . New York : Noyes) .
- Liu , C.-Y. , Lee , S. and Chuang , T.-J. 2001 . Mater. Sci. Engng. , B 86/2 : 101
- Malone , D. W. and Hummel , R. E. 1997 . Crit. Rev. Solid St. Mater. Sci. , 22 : 199
- Ouyang , H. and Lee , S. 1998 . Appl. Phys. Lett. , 73 : 3565
- Rice , J. R. and Chuang , T.-J. 1981 . J. Am. Ceram. Soc. , 64 : 46
- Rose , J. H. 1992 . Appl. Phys. Lett. , 61 : 2170
- Suo , Z. , Wang , W. and Yang , M. 1994 . Appl. Phys. Lett. , 64 1944
- Weise , J. 1972 . Thin Solid Films , 13 : 169