Electrical properties of MOCVD BST thin films annealed by rapid thermal annealing process

References

• Yamamuka , M. , Kawahara , Y. , Yuuki , A. and Ono , K. 1996 . Jpn. J. Appl. Phys. , 35 : 2530
   Web of Science ®Google Scholar
• Kang , C. S. , Cho , H. J. , Hwang , C. S. , Lee , B. T. , Hori , H. , Kim , W. D. , Lee , S. I. and Lee , M. Y. 1996 . Jpn. J. Appl. Phys. , 35 : 2530
   Web of Science ®Google Scholar
• Lee , B. T. , Lee , K. H. , Hwang , C. S. , Kim , W. D. , Horii , H. , Kim , H. W. , Cho , H. J. , Kang , C. S. , Chung , J. H. , Lee , S. I. and Lee , M. Y. 1997 . IEDM Tech. Dig. , : 249
   Google Scholar
• Kamankar , R. B. , Kressley , M. A. , Visokay , M. R. , Moise , T. , Xing , G. , Nemuta , S. , Okuno , Y. , Fang , S. J. , Wilson , A. M. , Gaynor , J. F. , Hurd , T. Q. , Crenshaw , D. L. , Summrfelt , S. and Colombo , L. 1997 . IEDM Tech. Dig. , : 245
   Google Scholar
• Mohadjeri , B. , Baklanov , M. R. , Kondoh , E. and Maex , K. 1998 . J. Appl. Phys. , 83 : 3614
   Web of Science ®Google Scholar
• Hwang , Cheol Seong and Joo , Suk Ho . 1999 . J. Appl. Phys. , 85 : 2431
   Web of Science ®Google Scholar
• Joo , J. H. , Seon , M. J. , Jeon , Y. C. , Oh , K. Y. , Roh , J. S. and Kim , J. J. 1997 . Appl. Phys. Lett. , 70 : 3053
   Web of Science ®Google Scholar
• Lee , K. H. , Hwang , C. S. , Lee , B. T. , Kim , W. D. , Hori , H. , Kang , C. S. , Cho , H. J. , Lee , S. I. and Lee , M. Y. 1997 . Jpn. J. Appl. Phys. , 36 : 5860
   Web of Science ®Google Scholar
• Dietz , G. W. , Schumacher , M. , Waser , R. , Strieffer , S. K. , Basceri , S. and Kingon , A. I. 1997 . J. Appl. Phys. , 82 : 2359
   Web of Science ®Google Scholar
• Fukuda , Y. , Numata , K. , Aoki , K. , Nishimura , A. , Fujihashi , G. , Okamura , S. , Ando , S. and Tsukamoto , T. 1998 . Jpn. J. Appl. Phys. , 37 : L453
   Google Scholar