REFERENCES
- Tajan, V. , Gonnard, P. , and Troccaz, M. , 1996. The Third ICIM/ECSSM (1996), pp. 564–569.
- Jeon, Y.-B. , Chung, T.-S. , and No, K.-S. , 2000. J. Electroceram. 4 (1) (2000), pp. 195–199, [CSA].
- Beeby, S. P. , Blackburn, A. , and White, N. M. , 1999. J. Micromech. Microeng. 9 (1999), pp. 218–229, [CSA].
- Le Dren, S. , Simon, L. , Gonnard, P. , Troccaz, M. , and Nicolas, A. , 2000. Materials Research Bulletin 35 (2000), pp. 2037–2045.
- Beeby, S. P. , Blackburn, A. , and White, N. M. , 1999. Materials Letters 40 (1999), pp. 187–191, [CSA].
- Kohler, M. , 1999. Etching in Microsystem Technology . New York: Wiley-VCH; 1999.
- Ikegami, N. , Matsui, T. , and Kanamori, J. , 1996. Jpn. J. Appl. Phys. 35 (1996), pp. 2505–2511.
- Das, N. C. , 2002. Solid-State Electron. 46 (2002), pp. 501–504, [CSA].
- Alexe, M. , Scott, A. F. , Curran, C. , Zakharov, N. D. , Hesse, D. , and Pignolet, A. , 1998. J. Appl. Phys. Lett. 73 (1998), pp. 1592–1594.
- Alexe, M. , Gruverman, A. , Harnagea, C. , Zakharov, N. D. , Pignolet, A. , Hesse, D. , and Scott, J. F. , 1999. J. Appl. Phys. Lett. 75 (1999), pp. 1158–1160.
- Soyama, N. , Sasaki, G. , Atsuki, T. , Yonezawa, T. , and Ogi, K. , 1994. Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994), pp. 5268–5271.
- Uchida, H. , Soyama, N. , Kageyama, K. , Ogi, K. , Scott, M. C. , Cuchiaro, D. J. , Derbenwick, G. F. , Mcmillan, L. D. , and Paz, C. A. , 1997. De Araujo , Integr. Ferroelectr. 16 (1997), pp. 41–52.
- Uozumi, G. , Kageyama, K. , Atsuki, T. , Soyama, N. , Uchida, H. , and Ogi, K. , 1999. Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999), pp. 5350–5353.
- Ha, S. M. , Kim, W. S. , Park, H. H. , and Kim, T. S. , 2001. Ferroelectrics 263 (2001), pp. 335–340.
- Ha, S. M. , Kim, W. S. , Park, H. H. , and Kim, T. S. , 2002. Ferroelectrics 273 (2002), pp. 351–357.
- Polla, D. L. , and Schiller, P. J. , 1995. Integr. Ferroelectr. 7 (1995), pp. 359–370.
- Hwang, J.-S. , Kim, W. S. , Park, H.-H. , and Kim, T. S. , 2003. Microelectronic Engineering 70 (2003), pp. 73–77.
- Kim, D.-G. , and H.-Kim, G. , 1999. Integr. Ferroelectr. 24 (1999), pp. 107–120.
- Xu, F. , Chu, F. , and Trolier-Mckinstry, S. , 1999. J. Appl. Phys. 86 (1999), pp. 588–594.
- Park, G. T. , Choi, J. J. , Ryu, J. , Fan, H. , and Kim, H. E. , 2002. J. Appl. Phys. Lett. 80 (2002), pp. 4606–4608.