References
- Parker , L. and Tasch , A. 1990 . IEEE Circuit and Device Mag. , 6 : 17 January
- Mancha , S. 1992 . Ferroelectrics , 135 : 131
- Kawaguchi , T. , Adachi , H. , Setsune , K. , Yamazaki , O. and Wasa , K. 1984 . Applied Optics , 23 : 2187
- Title , M. A. , Walpita , L. M. , Chen , W. , Lee , S. H. and Chang , W. 1986 . Applied Optics , 25 : 1509
- Poor , M. R. and Fleddermann , C. B. 1991 . J. Appl. Phys. , 70 : 3385
- Saito , K. , Choi , J. H. , Fukuda , T. and Ohue , M. 1992 . Jpn. J. Appl. Phys. , 31 : L1260
- van Glabbeek , J. J. G. , Spierings , A. C.M. , Ulenaers , M. J.E. , Dormans , G. J.M. and Larsen , P. K. 1993 . Mat. Res. Soc. Symp. Proc. , 310 : 127
- Vijay , D. P. , Desu , S. B. and Pan , W. 1993 . J. Electrochem. Soc. , 140 : 2635
- Charlet , B. and Davies , K. E. 1993 . Mat. Res. Soc. Symp. Proc. , 310 : 363
- Fracassi , F. , d'Agostino , R. and Cacucci , A. 1995 . J. Vac. Sci. Technol. A , 13 ( 1 ) : 63
- Morgan , R. A. 1985 . Plasma Etching in Semiconductor Fabrication , 24 New York : Elsevier .
- Pan , W. , Thio , C. L. , Desu , S. B. and Chung , C. W. 1994 . Mat. Res. Soc. Symp. Proc. , (in press)