A review of high dielectric materials for DRAM capacitors

References

• Dennard , R. U.S. Patent 3,387,286 . 1967 .
   Google Scholar
• Goltner , C. and Horninger , K. 1995 . Bull. Schweiz. Elektrotech. , 86 : 11 L. Geppert, IEEE Spectr., 32, 35 (1995)
   Google Scholar
• 1994 . The national Technology Roadmap for Semiconductors, Semiconductor Industry Association
   Google Scholar
• Teng , C. W. 1995 . Proc. 1995 Inter. Symp. on VLSI Technol., Systems, and Applic. 295
   Google Scholar
• Kaga , T. , Ohkura , M. , Murai , F. , Yokoyama , N. and Takeda , E. 1995 . J. Vac. Sci. Technol. B. , 13 : 2329
   Web of Science ®Google Scholar
• Anthony , M. , Scummerfelt , S. and Teng , C. 1995 . Texas Instrum. Tech. J , 12 : 30
   Google Scholar
• U.S. Patents: 5,236,860, 5,262,662, 5,281,549, 5,240,871 . and references therein
   Google Scholar
• Watanabe , H. , Tatsumi , T. , Ikarashi , T. , Sakai , A. , Aoto , N. and Kikkawa , T. 1995 . IEEE Trans. Electron Devices , 42 : 295
   Web of Science ®Google Scholar
• Bronner , G. , Aochi , H. , Gall , M. , Gambino , J. , Gernhardt , S. , Hammerl , E. , Ho , H. , Iba , J. , Ishiuchi , H. , Jaso , M. , Kleinhenz , R. , Mii , T. , Narita , M. , Nesbit , L. , Neumueller , W. , Nitayama , A. , Ohiwa , T. , Parke , S. , Ryan , J. , Sato , T. , Takato , H. and Yoshikawa , S. 1995 . Proc. of 1995 Symp. on VLSI Technol. 15
   Google Scholar
• Han , L. K. , Yoon , C. W. , Kim , J. , Yan , J. and Kwong , D. L. 1995 . IEEE Electron Device Lett. , 16 : 348
   Web of Science ®Google Scholar
• Cheng , H. C. , Liu , H. W. , Su , H. P. and Hong , G. 1995 . IEEE Electron Device Lett. , 11 : 509
   Web of Science ®Google Scholar
• Ohji , Y. , Matsui , Y. , Itoga , T. , Hirayama , M. , Sugawara , Y. , Torii , K. , Miki , H. , Nakata , M. , Asano , I. , Iijima , S. and Kawamoto , Y. 1995 . IEDM , : 111
   Google Scholar
• Sun , S. C. and Chen , T. F. 1994 . IEDM , 12 : 4 K. W. Kwon, I. S. Park, D. H. Han, E. S. Kim, S. T. Ahn, and M. Y. Lee, IEDM, 34.2 (1994)
   Google Scholar
• Lesaicherre , P.-Y. , Yamaguchi , H. , Miyasaka , Y. , Watanabe , H. , Ono , H. and Yoshida , M. 1995 . Integr. Ferroelec. , 8 : 201 C. S. Hwang, S. O. Park, C. S. Kang, H.-J. Cho, H.-K. Kang, S. T. Anh, and M. Y. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., 34, 5178 (1995)
   Web of Science ®Google Scholar
• Lesaicherre , P.-Y. , Yamamichi , S. , Takemura , K. , Yamaguchi , H. , Tokashiki , K. , Miyasaka , Y. , Yoshida , M. and Ono , H. 1996 . Integr. Ferroelec. , to be published P.-Y. Lesaicherre, S. Yamamichi, H. Yamaguchi, K. Takemura, H. Watanabe, K. Tokashiki, K. Satoh, T. Sakuma, M. Yoshida, S. Ohnishi, K. Nakajima, K. Shibahara, Y. Miyasaka, H. Ono, IEDM, 34.1 (1994).
   Google Scholar
• Dey , S. K. , Lee , J. J. and Alluri , P. 1995 . Jpn. J. Appl. Phys. , 34 : 3142
   Web of Science ®Google Scholar
• Lee , S. S. and Kim , H. G. 1995 . J. Electronic Materials , 24 : 1023
   Web of Science ®Google Scholar
• Peng , C.-J. and Krupanidhi , S. B. 1995 . J. Mater. Res. , 10 : 708
   Web of Science ®Google Scholar
• Jia , Q. X. , Wu , X. D. , Foltyn , S. R. and Tiwari , P. 1995 . Appl. Phys. Lett. , 66 : 2197
   Web of Science ®Google Scholar
• Kim , J. , Kwun , S. I. and Yoon , J. G. 1995 . Proc. 9th IEEE Int. Symp. on Appl. of Ferroelec. 423
   Google Scholar
• Yamamichi , S. , Takemura , K. , Sakuma , T. , Watanabe , H. , Ono , H. , Tokashiki , K. , Ikawa , E. and Miyasaka , Y. 1995 . Proc. of 9th IEEE Inter. Symp. of Appl. of Ferroelec. 74
   Google Scholar
• Kawahara , T. , Yamamuka , M. , Yuuki , A. and Ono , K. 1995 . Jpn. J. Appl. Phys. , 34 : 5077
   Web of Science ®Google Scholar
• Kuroiwa , T. , Tsunemine , Y. , Horikawa , T. , Makita , T. , Tanimura , J. , Mikami , N. and Sato , K. 1994 . Jpn. J. Appl. Phys. , 33 : 5187
   Web of Science ®Google Scholar
• Hwang , C. S. , Park , S. O. , Cho , H. J. , Kang , C. S. , Kang , H. K. , Lee , S. I. and Lee , M. Y. 1995 . Appl. Phys. Lett. , 67 : 2819
   Web of Science ®Google Scholar
• Khamankar , R. , Kim , J. , Jiang , B. , Sudhama , C. , Miniar , P. , Moazzami , R. , Jones , R. and Lee , J. 1994 . IEDM , 12 : 5
   Google Scholar
• Nishioka , Y. , Shiozawa , K. , Ohishi , T. , Kanamoto , K. , Tokuda , Y. , Sumitani , H. , Aya , S. , Yabe , H. , Itoga , K. , Hifumi , T. , Marumoto , K. , Kuroiwa , T. , Kawahara , T. , Nishikawa , K. , Oomori , T. , Fujino , T. , Yamamoto , S. , Uzawa , S. , Kimata , M. , Nunoshita , M. and Abe , H. 1995 . IEDM , 36 : 1
   Google Scholar
• Summerfelt , S. R. , Kotecki , D. E. , Kingon , A. I. and Al Shareef , H. N. 1995 . Proc. Mater. Res. Soc. 257
   Google Scholar
• Dietz , G. W. , Antpohler , W. , Klee , M. and Waser , R. 1995 . J. Appl. Phys. , 78 : 6113
   Web of Science ®Google Scholar
• Takemura , K. , Yamamichi , S. , Lesaicherre , P. Y. , Tokashiki , K. , Miyamoto , H. , Ono , H. , Miyasaka , Y. and Yoshida , M. 1995 . Jpn. J. Appl. Phys. , 34 : 5224
   Web of Science ®Google Scholar
• Al Shareef , H. N. , Bellur , K. R. , Kingon , A. I. and Auciello , O. 1995 . Appl. Phys. Lett. , 66 : 239
   Web of Science ®Google Scholar
• Grill , A. A. and Brady , M. J. 1995 . Integr. Ferroelectr. , 9 : 299
   Web of Science ®Google Scholar
• Farrell , C. E. , Milkove , K. R. , Wang , C. and Kotecki , D. E. 1996 . Integr Ferroelectr. , to be published
   Google Scholar
• Streiffer , S. K. , Basceri , C. , Kingon , A. I. , Lipa , S. , Bilodeau , S. , Carl , R. and Van Buskirk , P. C. 1996 . Proc. Mater. Res. Soc. , to be published
   Google Scholar
• Laibowitz , R. B. , Shaw , T. M. , Kotecki , D. E. , Tiwari , S. , Gupta , A. , Grill , A. , Duncombe , P. R. , Beach , D. B. and Bilodeau , S. 1996 . APS March Meeting, Abs. , R28 : 05
   Google Scholar
• Horikawa , T. , Makita , T. , Kuroiwa , T. and Mikami , N. 1995 . Jpn. J. Appl. Phys. , 34 : 5478
   Web of Science ®Google Scholar
• Numata , K. , Fukuda , Y. , Aoki , K. and Nishimura , A. 1995 . Jpn. J. Appl. Phys. , 34 : 5245
   Web of Science ®Google Scholar
• Bilodeau , S. , Van Buskirk , P. , Carl , R. , Kirlin , P. , Streiffer , S. , Basceri , C. and Kingon , A. Extended Abstract of the ‘96 SSDM Conference’ in press
   Google Scholar
• Grimes , H. M. 1995 . Texas Instrum. Tech. J. , 12 : 5 W. Fosnight, R. Martin, A. C. Bonora, Solid State Technol., 39, 77 (1996)
   Google Scholar
• Bilodeau , S. M. , Roeder , J. , VanBuskirk , P. and Kirlin , P. 1995 . Proceedings of the CVD Technologies for Inter-Level Dielectrics and Interconnects Symposium at SEMI-CON/WEST
   Google Scholar
• Coffer , A. 1995 . Proc. Tegal 21st Annual Plasma Symposium 13 R. Vail, Proc. Tegal 21st Annual Plasma Symposium, 85 (1995)
   Google Scholar