References
- Bondurant , D. W. and Gradinger , F. P. 1989 . IEEE Spectrum , 26 : 30
- Land , C. E. 1989 . J. Am. Cerm. Soc. , 72 : 2059
- Sayer , M. , Wu , Z. , Kumar , C. V. R. Vansam , Amm , D. T. and Griswold , E. M. 1993 . Can. J. Phys. , 70 : 1159
- Kawaguchi , T. , Adachi , H. , Setsune , K. , Yamazaki , O. and Wasa , K. 1984 . Applied Optics , 23 : 2187
- Poor , M. R. and Fleddermann , C. B. 1991 . J. Appl. Phys. , 70 : 3385
- Saito , K. , Choi , J. H. , Fukuda , T. and Ohue , M. 1992 . Jpn. J. Appl. Phys. , 31 : L1260
- Chung , Ilsub , Lee , J. K. , Yoo , I. K. and Desu , S. B. 1995 . Integrated Ferroelectrics , 10 : 99
- Morgan , R. A. 1985 . Plasma Etching in Semiconductor Fabrication , 24 New York : Elsevier .
- Zharov , S. N. and Rudyak , V. M. 1989 . Fizika , 2 : 9