1,821
Views
0
CrossRef citations to date
0
Altmetric
Articles

Properties of thin coatings deposited by physical vapour deposition on safety helmets

ORCID Icon

References

  • Miernik K. Podstawy fizyczne rozpylania magnetronowego. Inżynieria Powierzchni [Physical bases of magnetron sputtering]. Surf Eng. 1996;1:66–74. Polish.
  • Kula P. Inżynieria warstwy wierzchniej [Engineering the surface layer]. In: Tadeusiewicz M, editor. Łódź: Wydawnictwo Politechniki Łódzkiej; 2000. Polish.
  • Ledermann N, Baborowski J, Muralt P, et al. Sputtered silicon carbide thin films as protective coating for MEMS applications. Surf Coat Technol. 2000;125:246–250. doi: 10.1016/S0257-8972(99)00568-X
  • Wendler B., Danielewski M., Przybylski K., et al. New type AlMo-, AlTi- or Si-based magnetron sputtered protective coatings on metallic substrates. Journal of Achievements in Materials and Manufacturing Engineering. 2003; Vol. 12; p. 1033–1040.
  • Wendler, B., Jachowicz, M., Karolus, M., et al. Powłoki ochronne SiC, SiCN, SiN na stopach metali osadzane reakcyjną metodą magnetronową przy niskich temperaturach. Inżynieria Materiałowa [Material Engineering] Warszawa: SIGMA-NOT; 2006; Vol. 27; no. 3; p. 551–553. Polish.
  • Wendler, B., Rylska D., Rylski A., et al. Powłoki ochronne na stopach metali osadzane metodami PVD. Inżynieria Powierzchni [Surface Engineering] Warszawa; Institute of Precision Mechanics; 2005; no. 2; p. 14–18. Polish.
  • Wendler B, Jachowicz M, Kaczmarek Ł, et al. Si-based protective coating on Si and steel substrates. Inżynieria Materiałowa [Material Engineering] Warszawa: SIGMA-NOT; 2004; R. XXV; no. 3; p. 673–675.
  • Wendler B, Kaczmarek Ł, Jachowicz M, et al. Oxidation resistant coatings on gamma - TiAl alloy. Inżynieria Materiałowa [Material Engineering] Warszawa: SIGMA-NOT; 2004; R. XXV; no. 3; p. 677–680.
  • Miernik K. Działanie i budowa magnetronowych urządzeń rozpylających. [The operation and construction of the magnetron sputtering device]. Biblioteka Problemów Eksploatacji. Radom. 1997. Polish.
  • AGC-Plasma Technology Solutions; [cited 2020 April 19]. Available from: https://www.agc-plasma.com/technologies/#magnetron-sputtering-equipment.
  • Kelly P, Arnell RD. Magnetron sputtering: a review of recent developments and applications. Vacuum. 2000;56(3):159–172. doi: 10.1016/S0042-207X(99)00189-X
  • Greene JE. Tracing the recorded history of thin-film sputter deposition: from the 1800s to 2017. J Vac Sci Technol A. 2017;35(5):05C204. doi: 10.1116/1.4998940
  • Chen Y, Yang J, Cheng S, et al. Structural investigation of ZnO:Al films deposited on the Si substrates by radio frequency magnetron sputtering. Thin Solid Films. 2013;545:183–187. doi: 10.1016/j.tsf.2013.07.079
  • Pat S, Mohammadigharehbagh R, Özen S, et al. The Al doping effect on the surface, optical, electrical and nanomechanical properties of the ZnO and AZO thin films prepared by RF sputtering technique. Vac. 2017;141:210–215. doi: 10.1016/j.vacuum.2017.04.025
  • Kumar Kar S, Anshuman DA, Raj H, et al. New design and fabrication of smart helmet. IOP Conf. Series: Materials Science and Engineering 402; IOP Publishing; 2018; 012055; p.1–10.
  • Palmer SB. Single use crash helmets: does material density affect peak G [master's thesis]. Sacramento (CA): California State University, Sacramento; 2016. Available from: https://csus-dspace.calstate.edu/bitstream/handle/10211.3/171154/%20Stephanie_Palmer_Final_Thesis.pdf?sequence=1
  • Barbacki A. Mikroskopia elektronowa [Electron microscopy]; Wydawnictwo Politechniki Poznańskiej; 2007; Poznań. Polish.
  • Słowik G. Podstawy mikroskopii elektronowej i jej wybrane zastosowania w charakterystyce katalizatorów nośnikowych [Fundamentals of electron microscopy and the selected application the characteristics of the catalyst carrier]. Rzeszów: Uniwersytet Rzeszowski; 2012. ISBN: 978-83-931292-8-7. Polish.
  • Szumer A. Podstawy ilościowej mikroanalizy rentgenowskiej [Fundamentals of quantitative X-ray microanalysis]. Warszawa: WNT; 1994. Polish.
  • European Committee for Standardization (CEN). Metallic materials – Vickers hardness test – Part 1: Test method. Brussels: CEN; 2005. Standard No. EN ISO 6507-1:2005.
  • Owczarek G, Jurowski P. Zmiany transmisji promieniowania optycznego przez soczewki wewnątrzgałkowe eksplantowane z powodu zjawiska glisteningu, [Changes in transmission of optical radiation through intraocular lenses explanted due to the phenomenon of glistening]; Warszawa; Prace Instytutu Elektrotechniki; 2012; Vol. 255; p. 201–211. Polish.