References
- Alexe , M. 1998 . Appl. Phys. Lett. , 72 : 2283
- Amorosi , S. , Anderle , M. , Benvenuti , C. , Calatroni , S. , Carver , J. , Chiggiato , P. , Neupert , H. and Vollenberg , W. 2001 . Vacuum. , 60 : 89
- Belsick , J. R. and Krupanidhi , S. B. 1993 . J. appl. Phys. , 74 : 6851
- Cho , N.-H. , Nam , S.-H. and Kim , H.-G. 1992 . J. vac. Sci. Technol. A , 10 : 87
- Dalberth , M. J. , Stauber , R. E. , Price , J. C. and Rogers , C. T. 1998 . Appl. Phys. Lett. , 72 : 507
- Doolittle , L. R. 1986 . Nucl. Iustrum. Meth. B , 15 : 227
- Evangelou , E. K. , Konofaos , N. and Thomas , C. B. 2000 . Phil. Mag. B , 80 : 395
- Ezhilvalavan , S. and Tseng , T. Y. 2000 . Mater. Phys. Chem. , 65 : 227
- Guo , S. , Arwin , H. , Jacobsen , S. N. , Järrendahl , K. and Helmersson , U. 1995 . J. appl. Phys. , 77 : 5369
- Herbert , J. M. 1985 . Ceramic Dielectrics and Capacitors , 226 New York : Gordon and Breach .
- Im , J. , Auciello , O. , Baumann , P. K. , Streiffer , S. K. , Kaufman , D. Y. and Krauss , A. R. 2000 . Appl. Phys. Lett. , 76 : 625
- Ishibashi , K. , Hirata , K. and Hosokawa , N. 1992 . J. vac. Sci. Technol. A , 10 : 1718
- Jia , Q. X. , Smith , J. L. , Chang , L. H. and Anderson , W. A. 1998 . Phil. Mag. B , 77 : 163
- Joshi , P. C. and Krupanidhi , S. B. 1993 . J. appl. Phys. , 73 : 7627
- Kingon , A. I. , Maria , J. P. and Streiffer , S. K. 2000 . Nature , 406 : 1032
- Lide , D. R. and Frederikse , H. P. R. , eds. 1995 . CRC Handbook of Chemistry and Physics. , 76th edition , West Palm Beach , Florida : CRC Press .
- Linz , A. Jr. 1953 . Phys. Rev. , 91 : 753
- Migliuolo , M. , Belan , R. M. and Brewer , J. A. 1990 . Appl. Phys. Lett. , 56 : 2572
- Nakagawara , O. , Fujibayashi , K. , Makino , T. and Katayama , Y. 2000 . Vacuum , 59 : 742
- Nam , S.-H. and Kim , H.-G. 1992 . J. appl. Phys. , 72 : 2895
- Nam , S.-H. and Kim , H.-G. 1994 . Ferroelectrics , 152 : 79
- Nam , S.-H. , Lee , W.-J. and Kim , H.-G. 1994 . J. Phys. D , 27 : 866
- Nicollian , E. H. and Brews , J. R. 1982 . Metal-Oxide-Semiconductor Physics and Technology , New York : Wiley .
- Noda , S. , Nishioka , M. , Harano , A. and Sadakata , M. 1998 . J. Phys. Chem. B , 102 : 3185
- Otani , S. , Kimura , M. and Sasaki , N. 1993 . Appl. Phys. Lett. , 63 : 1889
- Park , S. K. , Baek , M. S. , Bae , S. C. , Kwon , S. W. , Kim , J. H. and Kim , K. W. 2000 . Jap. J. appl. Phys. , 38 : 6483
- Peng , C.-J. , Hu , H. and Krupanidhi , S. B. 1993 . Appl. Phys. Lett. , 63 : 1038
- Pettersson , L. A. A. , Hultman , L. and Arwin , H. 1998 . Appl. Optics , 37 : 4130
- Saitoh , K. , Niwa , H. , Kobayashi , M. , Tanemura , S. , Ikeyama , M. , Takeda , M. , Masuda , H. , Miyagawa , Y. , Sakuma , T. , Yamamichi , S. , Matsubara , S. , Yamaguchi , H. and Miyasaka , Y. 1990 . Appl. Phys. Lett. , 57 : 2431
- Schneider , J. M. , Hjörvarsson , B. , Wang , X. and Hultman , L. 1999 . Appl. Phys. Lett. , 75 : 3476
- Tompkins , H. G. and McGahan , W. A. 1999 . Spectroscopic Ellipsometry and Reflectometry , New York : Wiley .
- Vink , T. J. , Verbeek , R. G. F. A. , Snijders , J. H. M. and Tamminga , Y. 2000 . J. appl. Phys. , 87 : 7252
- Wang , X. , Helmersson , U. , Madsen , L. D. , Ivanov , I. P. , Münger , P. , Rudner , S. , Hjörvarsson , B. and Sundgren , J.-E. 1999 . J. vac. Sci. Technol. A , 17 : 564
- Wang , X. , Olafsson , S. , Sandström , P. and Helmersson , U. 2000 . Thin Solid Films , 360 : 181
- Wilk , G. D. , Wallace , R. M. and Anthony , J. M. 2001 . J. appl. Phys. , 89 : 5243
- Yamaguchi , H. , Matsubara , S. and Miyasaka , Y. 1991 . Jpn. J. appl. Phys. , 30 : 2197
- Yasumoto , T. , Yanase , N. , Abe , K. and Kawakubo , T. 2000 . Jpn. J. appl. Phys. , 39 : 5369
- Yeh , M. H. , Liu , Y. C. , Liu , K. S. , Lin , I. N. , Lee , J. M. and Cheng , H. F. 1993 . J. appl. Phys. , 74 : 2143