REFERENCES
- Minsk , L. M. , Smith , J. G. , Van Deusen , W. P. , & Wright , J. F. ( 1959 ). J. Appl. Polym. Sci. , 2 , 302 .
- Reiser , A. ( 1989 ). Photoreactive Polymers–the Science and Technology of Resist , Wiley : New York .
- Thompson , L. F. , Wilson , G. G. , & Bowden , M. J. ( 1994 ). Introduction to Microlithography , Am. Chem. Soc. : Washington , D.C.
- Tazuke , S. ( 1982 ). Developments in Polymer Photochemistry , Vol. 3 , Applied Science Publishers : London .
- Wong , C. P. ( 1993 ). Polymers for Electronic and Photonic Applications , Academic Press Inc.
- Nagamatzu , G. & Inui , H. ( 1977 ). Photosensitive Polymers , Kodansha : Tokyo .
- Rehab , A. & Salahuddin , N. ( 1999 ). Polymer , 40 , 2197 .
- Subramanian , K. , Krishnasamy , V. , Nanjundan , S. , & Rami Reddy , A. V. ( 2000 ). Eur. Polym. J. , 36 , 2343 .
- Lee , D. W. , Hur , H. J. , Kim , B. K. , Park , S. W. , & Park , D. W. ( 2003 ). J. Ind. Eng. Chem. , 9 ( 15 ), 513 .
- Rehab , A. ( 1998 ). Eur. Polym. J. , 34 ( 12 ), 1845 .
- Lee , S. B. , Kim , M. S. , Lee , M. S. , Lee , D. S. , Lee , J. Y. , Lee , J. D. , & Kim , W. G. ( 2003 ). Mol. Cryst. Liq. Cryst. , 406 , 77/[271] – 83/[277] .
- Ninomiya , A. & Yoshimura , H. ( 2003 ). J. Appl. Polym. Sci. , 87 , 684 – 692 .
- Ahn , K. W. , Park , Y. H. , & Chae , H. S. ( 2006 ). Mol. Cryst. Liq. Cryst. , 445 , 297/[587] – 305/[595] .
- Uchida , E. , Tomoko , S. , Hiroshi , O. , & Nobuhiro , K. ( 2004 ). Macromolecules , 37 , 5282 .
- Shigeru , Y. , Masaru , N. , Shinya , M. , & Kunihiro , I. ( 2001 ). Macromol. Chem. Phys. , 202 , 354 .
- Chae , H. S. & Park , Y. H. ( 2007 ). Mol. Cryst. Liq. Cryst. , 463 , 203 .