References
- C. Voss, S. Subramanian, & C.-H. Chang, J. Appl. Phys. 96, 5819 (2004).
- S.-H. K. Park, C.-S. Hwang, H. Y. Jeong, H. Y. Chu, & K. I. Cho, Electrochem. Solid-State Lett. 11, H10 (2008).
- X.-H. Zhang, B. Domercq, X. Wang, S. Yoo, T. Kondo, Z. L. Wang, & B. Kippelen, Org. Electron. 8, 718 (2007).
- A. L. Salas-Villasenor, I. Mejia, J. Hovarth, H. N. Alshareef, D. K. Cha, R. Ramirez-Bon, B. E. Gnade, & M. A. Quevedo-Lopez, Electrochem. Solid-State Lett. 13, H313 (2010).
- Hareesh Dondapati, Duc Ha, Erin Jenrette, Bo Xiao, & A. K. Pradhan, Appl. Phys. Lett. 105, 052105 (2014)
- J.M. Dona & J. Herrero, J. Electrochem. Soc. 139, 2810 (1992).
- M.A. Martinez, C. Guillén, & J. Herrero, Appl Surf Sci. 8, 136 (1998).
- R. Ortega-Borges & D. Lincot, J. Electrochem. Soc. 140, 3464 (1993).
- M. J. Kim, S. H. Lee, & S. H. Sohn, Thin Solid Films, 519, 1787 (2011),.
- M. J. Kim, H. T. Kim, J. K. Kang, D. H. Kim, D. H. Lee, S. H. Lee, & S. H. Sohn,. Mol. Cryst. Liq. Cryst., 532, 21 (2010).
- M. Froment & D. Lincot, Electrochemica Acta., 40, 1293 (1995)
- S. Gorer & G. Hodes, J. Phys. Chem. 98, 5338 (1994)