References
- S. I. Shim, Y. S. Kwon, Y. T. Kim and J. H. Park: Solid State Electron., 2005, 49, 497–504.
- H. Ishiwara: Integr. Ferroelectr., 2006, 79, 3–13.
- C. H. Lu and C. H. Wu: J. Eur. Ceram. Soc., 2002, 22, 707–714.
- L. Van Hai, T. Kanashima and M. Okuyama: Integr. Ferroelectr., 2006, 84, 179–188.
- G. Jha, A. Roy, A. Dhar, I. Manna and S. K. Ray: Physica B, 2007, 400B, 33–37.
- T. Mihara, H. Yoshimori, H. Watanabe and C. A. Paz de Araujo: Jpn J. Appl. Phys., 1995, 34, 5233–5239.
- Y. Ding, J. S. Liu, Y. N. Wang and K. S. Kuo: Ferroelectrics, 2001, 251, 165–174.
- C. H. Lu and C. Y. Wen: J. Eur. Ceram. Soc., 2000, 20, 739–745.
- K. T. Kim and C. I. Kim: Thin Solid Films, 2005, 478, 6–12.
- A. Garg, A. Snedden, P. Lightfoot, J. F. Scott, X. Hu and Z. H. Barber: J. Appl. Phys., 2004, 96, 3408–3412.
- H. Wang and M. F. Ren: J. Mater. Set, Mater. Electron., 2006, 17, 165–169.
- K. Takahashi, M. Suzuki, T. Oikawa, T. Kojima, T. Watanabe and H. Funakubo: Chem. Vapor Depos., 2006, 12, 136–142.
- Y. Lia, S. Zhang, W. Fei, T. Sritharan and C. Xu: Thin Solid Films, 2007, 515, 8371–8375.
- F. Galasso, L. Katz and R. Ward: J. Am. Chem. Soc., 1959, 81, 5898–5861.
- C. H. Lu and Y. C. Chen: J. Eur. Ceram. Soc., 1998, 19, 2909–2915.
- C. H. Lu and Y. H. Huang: Mater. Sci. Eng. B, 2003, B98, 33–37.