References
- L. S. Fan, Y. C. Tai and R. S. Muller: IEEE Trans. Electron. Dev., 1988, 35, 724.
- L. S. Fan, Y. C. Tai and R. S. Muller: Sens. Actuat. A, 1989, 20A, 41.
- W. S. N. Trimmer and K. J. Gabriel: Sens. Actuat. A, 1987, 11A, 189.
- S. H. Kim, D. B. Asay and M. T. Dugger: Nano Today, 2007,2, 22.
- D. B. May, M. T. Dugger and S. H. Kim: Tribol Lett., 2008, 29, 67.
- D. B. Asay, M. T. Dugger, J. A. Ohlhausen and S. H. Kim: Langmuir, 2008, 24, 155.
- A. L. Barnette, D. B. Asay, M. J. Janik and S. H. Kim: J. Phys. Chem. C, 2009, 113C, 10632.
- D. B. May and S. H. Kim: J. Chem. Phys., 2006, 124, 174712.
- D. B. Asay and S. H. Kim: Langmuir, 2007, 23, 12174
- H.-H. Butt and M. Kapple: Adv. Colloid Interf Sci., 2009, 146, 48.
- D. B. Asay, M. P. de Boer and S. H. Kim: J. Adhes. Sci. Technol, 2010, to be published.
- A. L. Barnette, D. B. Asay, D. Kim, B. D. Guyer, H. Lim, M. J. Janik and S. H. Kim: Langmuir, 2009, 25, 13052.
- M. Marino, O. L. Eryilmaz, A. Erdemir and S. H. Kim: to be published.
- A. Erdemir O. L. Eryilmaz, I. B. Nilufer and G. R. Fenske: Surf Coat. Technol, 2000, 133–134, 448.